特許

J-GLOBAL ID：201003000453787113

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤

発明者： 内海 義之 ,  入江 真樹子
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-208735
公開番号（公開出願番号）：特開2010-044253
出願日： 2008年08月13日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、一般式(b1-1)で表される化合物を含む酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/28 ,  C07D 335/16

FI (7件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F212/14 ,  C08F220/28 ,  C07D335/16

Fターム (27件)：

2H025AA01 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-201310   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-100203   出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (4件)

• 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-075494   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-033008   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-277528   出願人：富士フイルム株式会社
• 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-379177   出願人：富士フイルム株式会社