フォトマスクの多重描画方法及びこれを用いて製造されたフォトマスク

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：特許業務法人森脇特許事務所 , 森脇正志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-043338
公開番号（公開出願番号）：特開2014-170200
特許番号：特許第6176947号
出願日： 2013年03月05日
公開日（公表日）： 2014年09月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】レーザ描画装置を用いて1回で描画する従来の描画時よりも小さい出力でフォトマスクブランクス上のフォトレジスト膜に同一の描画パターンを複数回描画するフォトマスクの多重描画方法であって、前記レーザ描画装置は、ラスター走査方式であるとともにスウィープ機構を備え、レーザ光のスウィープによる1ストライプの描画をn回繰り返すことを特徴とするフォトマスクの多重描画方法。

IPC (1件)：