パターン描画方法及びパターン描画装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：後藤洋介 , 池田憲保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-148362
公開番号（公開出願番号）：特開2004-354415
出願日： 2003年05月26日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】各マイクロミラーに印加する電圧の中間値を用いて制御せずに、中間光量を利用できるパターン描画方法、及びパターン描画装置を提供する。【解決手段】パターン描画装置では10000Hzのフレーム数でミラーデバイス106上のパターンが制御されるため、0.1msごとに新しいパターンがマスク基板108上に投影される。0.1msの時間毎に、投影パターン109の位置(順次、109a、109b、109c、109d、109e)をずらして投影する。すなわち、0.1ms毎に、パルス状のレーザ光L1の発生によって、拡大マスク110上に投影されるパターンを投影パターンのサイズ(X方向の幅)の1/4づつ移動させる。これにより、投影パターンがフレーム間で3/4の面積が重なることから、投影パターンの全面において4回オーバーラップするため、4段階の階調を出すことができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

二次元に配列された微小ミラーを含むミラーデバイスに光源からの露光光を入射し、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを用いて基板上にパターンを描画するパターン描画方法において、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを直接または縮小投影して前記基板上のパターン投影領域の実質的に全面に複数回オーバーラップさせて露光することを特徴とするパターン描画方法。

IPC (3件)：

G03F7/20 , G03F1/08 , H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/20 505 , G03F1/08 A , H01L21/30 519 , H01L21/30 529

Fターム (12件)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BB08 , 2H097AA05 , 2H097BB01 , 2H097CA17 , 2H097LA20 , 5F046BA06 , 5F046BA07 , 5F046CA03 , 5F046CB02 , 5F046CB18

引用特許：

審査官引用 (5件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-141320 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
レーザリソグラフィ用のマルチプレクサ
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-559464 出願人：サイマー,インコーポレイテッド
特開昭62-021220

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