特許
J-GLOBAL ID:201703013212791396
荷電粒子線装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
戸田 裕二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-003054
公開番号(公開出願番号):特開2014-135214
特許番号:特許第6165444号
出願日: 2013年01月11日
公開日(公表日): 2014年07月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 試料を設置する試料ステージと
前記試料へ荷電粒子線を走査させる走査光学系と、
前記荷電粒子線を偏向させる第1偏向器及び第2偏向器と、
前記試料から放出された電子に基づき、第1の方向よりも第2の方向の画素サイズが大きい画像を取得する画像取得部と、
前記第1偏向器及び第2偏向器における、偏向の強度比及び回転角の組合せの条件を変化させた複数の前記画像を保存する画像保存部と、
前記保存された複数の前記画像における前記第2の方向の変化量に基づき、前記第1偏向器及び第2偏向器に対し、前記偏向の強度比及び回転角の組合せを定める評価部とを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
IPC (4件):
H01J 37/22 ( 200 6.01)
, H01J 37/147 ( 200 6.01)
, G01B 15/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/66 ( 200 6.01)
FI (6件):
H01J 37/22 502 B
, H01J 37/147 B
, H01J 37/22 502 H
, G01B 15/00 B
, G01B 15/00 K
, H01L 21/66 J
引用特許:
出願人引用 (4件)
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荷電粒子線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-103949
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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荷電粒子線顕微方法および荷電粒子線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-187385
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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パターン形状評価装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-140088
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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荷電粒子線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-367153
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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審査官引用 (4件)
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荷電粒子線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-103949
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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荷電粒子線顕微方法および荷電粒子線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-187385
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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パターン形状評価装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-140088
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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荷電粒子線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-367153
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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