特許

J-GLOBAL ID：201703013303456980

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 杉田 智彦 ,  佐藤 勝広 ,  飯森 弘恭 ,  小川 義宏
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (4件)： 勝沼 宏仁 ,  関根 毅 ,  赤岡 明 ,  山ノ井 傑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-118244
公開番号（公開出願番号）：特開2017-005134
出願日： 2015年06月11日
公開日（公表日）： 2017年01月05日
要約：

【課題】基板上のパターンの倒壊を防止しつつ、基板を容易に乾燥させることが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】一の実施形態によれば、基板処理方法は、パターンが設けられた基板の表面を洗浄およびリンスし、洗浄およびリンスされた前記基板の表面に、固化剤を含有する固化剤含有液を供給することを含む。さらに、前記方法は、前記基板の表面に前記固化剤を固体として析出させ、前記固体を分解させて気化させることで、前記基板の表面から前記固体を除去することを含む。さらに、前記固化剤は、アンモニウム塩を含有し、前記アンモニウム塩は、アンモニウムイオン、またはアンモニウムイオンの4個の水素原子のうちの1個以上が他の原子または原子団に置換された構造のイオンを含有する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

パターンが設けられた基板の表面を洗浄およびリンスし、 洗浄およびリンスされた前記基板の表面に、固化剤を含有する固化剤含有液を供給し、 前記基板の表面に前記固化剤を固体として析出させ、 前記固体を分解させて気化させることで、前記基板の表面から前記固体を除去する、 ことを含み、 前記固化剤は、アンモニウム塩を含有し、 前記アンモニウム塩は、アンモニウムイオン、またはアンモニウムイオンの4個の水素原子のうちの1個以上が他の原子または原子団に置換された構造のイオンを含有する、 基板処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  G03F 7/40

FI (3件)：

H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 651B ,  G03F7/40

Fターム (16件)：

2H196AA25 ,  2H196GA17 ,  2H196HA02 ,  5F146LA03 ,  5F157AA09 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157BB11 ,  5F157BE57 ,  5F157BH18 ,  5F157CB01 ,  5F157CB11 ,  5F157DA21

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 基板乾燥装置および基板乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-168469   出願人：株式会社SCREENホールディングス
• 基板乾燥方法及び基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-110677   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 洗浄保護治具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-121689   出願人：東京エレクトロン株式会社
• バッチ式真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-322848   出願人：株式会社アルバック
• 基板処理方法及び基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-149367   出願人：株式会社東芝
• 基板乾燥装置および基板乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-035093   出願人：株式会社SCREENホールディングス