特許

J-GLOBAL ID：201703013575907850

浸漬式の洗浄装置

発明者： 内藤 洋右 ,  天野 裕 ,  原 史朗
出願人/特許権者： 株式会社プレテック ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-181008
公開番号（公開出願番号）：特開2014-038958
特許番号：特許第6100486号
出願日： 2012年08月17日
公開日（公表日）： 2014年02月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 洗浄液で平板状のウェハを洗浄する洗浄装置であって、 洗浄液が供給され前記ウェハが挿入可能な複数の洗浄槽を有するチャンバと、 このチャンバ上に移動可能に取り付けられ前記ウェハを水平に把持し、このウェハを水平に把持した状態で、このウェハをいずれかの前記洗浄槽に浸漬させる把持部と、 前記把持部を駆動させる駆動部と、を備え、 前記複数の洗浄槽は、前記チャンバの中心から等しく、このチャンバの周方向に沿った位置にそれぞれ設けられ、 前記把持部は、前記チャンバの中心を回転中心として水平方向に回転可能かつ昇降可能とされ、 前記洗浄槽は、外槽部と、この外槽部内に設置された内槽部とを有し、前記外槽部の底部に排出管部が設けられ、前記内槽部の底部に供給管部が設けられ、前記内槽部の上端縁に越流凹部が設けられ、前記内槽部の前記供給管部から前記洗浄液が流入され、前記内槽部の前記越流凹部から前記洗浄液が越流して、前記外槽部の前記排出管部から前記洗浄液が流出する ことを特徴とする洗浄装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 648 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄装置及び圧電デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-068324   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-252602   出願人：関西日本電気株式会社
• 特開平1-242116
  
• 半導体洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-290781   出願人：新日本製鐵株式会社