特許
J-GLOBAL ID:201703013668105338
多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 亀松 宏
, 福地 律生
, 橋村 一誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-076280
公開番号(公開出願番号):特開2016-196417
出願日: 2015年04月02日
公開日(公表日): 2016年11月24日
要約:
【課題】本発明は、幅広い温度域において、酸素および一酸化炭素を選択的に吸着可能なガス吸着材として利用が可能な多孔性高分子金属錯体を提供し、さらにこれを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置を提供する。【解決手段】[CuX]n (i)(式(i)中、Xは銅イオンの配位子であり、5位にふっ素以外のハロゲン元素を含む官能基を有するイソフタル酸誘導体である。nは、CuXから成る金属錯体の構成単位の集合数を示すもので、nは限定されない。)で表される集合体構造を有することを特徴とする多孔性高分子金属錯体である。【選択図】図4
請求項(抜粋):
[CuX]n (i)
(式(i)中、Xは銅イオンの配位子であり、5位にふっ素以外のハロゲン元素を含む官能基を有するイソフタル酸誘導体である。nは、CuXから成る金属錯体の構成単位の集合数を示すもので、nは限定されない。)
で表される集合体構造を有することを特徴とする多孔性高分子金属錯体。
IPC (3件):
C07C 63/15
, B01J 20/26
, F17C 11/00
FI (3件):
C07C63/15 Z
, B01J20/26 A
, F17C11/00 A
Fターム (32件):
3E172AA02
, 3E172AA09
, 3E172AB12
, 3E172AB20
, 3E172EA02
, 3E172FA07
, 4G066AA37A
, 4G066AB05A
, 4G066AB07A
, 4G066AB21A
, 4G066AB24B
, 4G066AC11B
, 4G066BA22
, 4G066BA31
, 4G066BA36
, 4G066CA27
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066DA01
, 4H006AA01
, 4H006AB90
, 4H006BJ50
, 4H006BM10
, 4H006BM74
, 4H006BS30
, 4H006BS70
, 4H048AA01
, 4H048AB90
, 4H048VA14
, 4H048VA20
, 4H048VA56
, 4H048VB10
引用特許:
引用文献:
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