特許

J-GLOBAL ID：201703014585036136

ルイス酸を用いた環状シロキサンの製造方法

発明者： 海野 雅史 ,  江川 泰暢 ,  島田 茂 ,  佐藤 一彦
出願人/特許権者： 国立大学法人群馬大学 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (2件)： 平川 明 ,  石丸 竜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-030294
公開番号（公開出願番号）：特開2017-145229
出願日： 2016年02月19日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
要約：

【課題】環状シロキサン中のシラノール基を簡易的に修飾し得る新たな反応を見出し、有用な環状シロキサンを効率良く製造することができる環状シロキサンの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】ルイス酸の存在下、下記式(A)で表される構造を環の構成単位として含む環状シロキサンと下記式(B)で表されるヒドロシランを反応させることにより、シリル化された有用な式(C)で表される構造を環の構成単位として含む環状シロキサンを効率良く製造することができる。(式(A)〜(C)中、R1はそれぞれ独立して炭素数1〜12の炭化水素基を、R2はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ルイス酸の存在下、下記式(A)で表される構造を環の構成単位として含む環状シロキサンと下記式(B)で表されるヒドロシランを反応させて下記式(C)で表される構造を環の構成単位として含む環状シロキサンを生成する修飾工程を含むことを特徴とする、環状シロキサンの製造方法。

IPC (1件)：

C07F 7/21

FI (1件)：

C07F7/21

Fターム (8件)：

4H039CA92 ,  4H039CD10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP03 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ87 ,  4H049VT08 ,  4H049VT25

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 多官能性環状シロキサン化合物、この化合物から製造されたシロキサン系重合体及びこの重合体を用いた絶縁膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-188031   出願人：三星電子株式会社
• 不完全縮合オリゴシルセスキオキサンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-118083   出願人：小西化学工業株式会社
• シリコーンゲル組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-152312   出願人：信越化学工業株式会社
• シロキサン化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-076446   出願人：国立研究開発法人産業技術総合研究所, 国立大学法人群馬大学