特許
J-GLOBAL ID:201703016158810265
継続的プロセス検証(CPV)用の分析/統計モデリングを使用するための方法及び装置、製品
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中島 淳
, 加藤 和詳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-244982
公開番号(公開出願番号):特開2017-111827
出願日: 2016年12月19日
公開日(公表日): 2017年06月22日
要約:
【課題】継続的プロセス検証(CPV)用の分析/統計モデリングの使用を提供するための方法及び装置が開示される。【解決手段】例示的な方法は、第1の時間に第1のバッチを製造する間に測定される第1のヒストリカルバッチデータセットに基づいて複数のパラメータについて分布特性を決定すること、及び複数のパラメータの分布特性に基づいてモデルバッチを生成することを含む。シミュレートされたバッチの第1のセットのうちの1つごとに、モデルバッチに基づいて複数のパラメータの値を生成すること、及び生成された値に基づいて品質予測を決定することによって、シミュレートされたバッチの第1のセットに対応するシミュレートされたバッチデータセットの第1のセットを生成することも含む。開示された例示的な方法は、シミュレートされたバッチデータセットの第1のセット及び第1のヒストリカルバッチデータセットに基づいてモデルを生成することも含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1の時間に第1のバッチを製造する間に測定される第1のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、複数のパラメータについて分布特性を決定することと、
前記複数のパラメータの前記分布特性に基づいて、モデルバッチを生成することと、
シミュレートされたバッチの第1のセットに対応するシミュレートされたバッチデータセットの第1のセットを、前記シミュレートされたバッチの第1のセットのうちの1つごとに、
前記モデルバッチに基づいて、前記複数のパラメータの値を生成すること、及び
前記生成された値に基づいて、品質予測を決定すること、によって、生成することと、
前記シミュレートされたバッチデータセットの第1のセット及び前記第1のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、後続の第2のバッチの製造をモニタするために実装されるモデルを生成することと、を含む、方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G05B23/02 G
, G05B19/418 Z
Fターム (24件):
3C100AA22
, 3C100BB01
, 3C100BB11
, 3C100BB27
, 3C100EE11
, 3C100EE14
, 3C223AA07
, 3C223AA14
, 3C223BA03
, 3C223BB06
, 3C223BB11
, 3C223BB12
, 3C223BB17
, 3C223CC02
, 3C223DD03
, 3C223EB01
, 3C223FF04
, 3C223FF05
, 3C223FF22
, 3C223FF24
, 3C223GG01
, 3C223HH02
, 3C223HH22
, 3C223HH28
引用特許: