特許
J-GLOBAL ID：201703016560105519
カテコール/キノン官能化層のためのプラズマ堆積法
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 大島特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-517242
公開番号（公開出願番号）：特表2017-533347
出願日： 2015年08月24日
公開日（公表日）： 2017年11月09日
要約：
本発明は、前駆体を用いて、無溶媒下で、無機または有機基板に付着性のカテコールおよび/またはキノン官能化層を堆積させるプラズマ堆積法であって、前記前駆体が、キノン基、保護または未保護のカテコール基、キノン基および/または保護もしくは未保護のカテコール基で置換された分子、および/またはカテコール基および/またはキノン基の天然もしくは合成誘導体を少なくとも含む方法を提供する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基材にカテコールおよび/またはキノン官能化層を付着させる方法であって、
(a)基材を用意するステップと、
(b)キノン基、保護もしくは未保護のカテコール基、キノン基および/または保護もしくは未保護のカテコール基で置換された分子、および/または、カテコール基および/またはキノン基の天然もしくは合成誘導体を少なくとも含み、前記キノン基が1,2-ベンゾキノン基であり、かつ前記カテコール基が1,2-ジヒドロキシベンゼン基である前駆体を用意するステップと、
(c)前記前駆体および前記基材に対してプラズマを照射し、前記基材上に、カテコールおよび/またはキノン官能化層を含むコーティングを形成するステップとを有することを特徴とする方法。
IPC (4件)：
C23C 14/12
, C23C 16/505
, C23C 16/511
, C23C 16/515
C23C14/12
, C23C16/505
, C23C16/511
, C23C16/515
4K029AA02
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029CA12
, 4K029FA05
, 4K030AA01
, 4K030BA61
, 4K030CA02
, 4K030CA07
, 4K030DA02
, 4K030FA03
, 4K030GA04
, 4K030JA09
