特許
J-GLOBAL ID：201703016674845130

光学異方性層の製造方法および偏光板の製造方法

発明者：
村松 彩子

村松 彩子 について

, 
酒井 進之介

酒井 進之介 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-193026
公開番号（公開出願番号）：特開2017-068005
出願日： 2015年09月30日
公開日（公表日）： 2017年04月06日
要約：
【課題】本発明の課題は、優れたフィルムコントラストおよびパネルコントラストを達成することができる光学異方性層の製造方法および偏光板の製造方法を提供することである。【解決手段】液晶性化合物を含有する重合性液晶組成物がスメクチック相で固定化された光学異方性層を作製する光学異方性層の製造方法であって、 液晶性化合物が、等方相の低温側にネマチック相およびスメクチック相をこの順に示す液晶性化合物であり、 重合性液晶組成物からなる未硬化層を、スメクチック相とネマチック相との相転移温度以上の温度に加熱する加熱工程と、 加熱工程の後に、未硬化層を相転移温度未満の温度に冷却して保持した後に相転移温度以上の温度に加熱して保持する工程を1回以上繰り返す冷却加熱工程と、 冷却加熱工程の後に、未硬化層を相転移温度未満の温度に冷却して重合させ、光学異方性層を作製する重合工程とを有する、光学異方性層の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
液晶性化合物を含有する重合性液晶組成物がスメクチック相で固定化された光学異方性層を作製する光学異方性層の製造方法であって、 前記液晶性化合物が、等方相の低温側にネマチック相およびスメクチック相をこの順に示す液晶性化合物であり、 前記重合性液晶組成物からなる未硬化層を、スメクチック相とネマチック相との相転移温度以上の温度に加熱する加熱工程と、 前記加熱工程の後に、前記未硬化層を前記相転移温度未満の温度に冷却して保持した後に前記相転移温度以上の温度に加熱して保持する工程を1回以上繰り返す冷却加熱工程と、 前記冷却加熱工程の後に、前記未硬化層を前記相転移温度未満の温度に冷却して重合させ、光学異方性層を作製する重合工程とを有する、光学異方性層の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/30 ,  C08L 29/04 ,  C08K 5/00 ,  C08K 3/16
FI (4件)：
G02B5/30 ,  C08L29/04 A ,  C08K5/00 ,  C08K3/16
Fターム (22件)：
2H149AA07 ,  2H149AB05 ,  2H149BA02 ,  2H149BA13 ,  2H149BA14 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB03 ,  2H149EA02 ,  2H149FA02Z ,  2H149FA03W ,  2H149FA03Z ,  2H149FA24Y ,  2H149FA26Y ,  2H149FA28Y ,  2H149FA33Y ,  2H149FA51Y ,  2H149FA58Y ,  4J002BE021 ,  4J002DD006 ,  4J002FD206 ,  4J002GP00
引用特許：
審査官引用 (3件)

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