特許

J-GLOBAL ID：201703017772288121

リトグラフ装置

発明者： ボブ シュトリーフケルク ,  アントニウス テオドルス アンナ マリア デルクセン ,  ジョエリ ロフ ,  クラウス サイモン ,  アレクサンダー シュトラーイユェル
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  青木 武司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-209558
公開番号（公開出願番号）：特開2017-054130
出願日： 2016年10月26日
公開日（公表日）： 2017年03月16日
要約：

【課題】液浸投影露光装置において、基板および浸漬液の温度勾配による画像のゆがみを減じる。【解決手段】投影露光装置PLの最終段の部材、基板および浸漬液体の温度を共通の目標温度T4に調整する温度制御器を含む浸漬リトグラフ装置であって、これら構成部材の全温度を調整し、温度勾配を減少させることで、画像形成の整合性と全体的性能を向上させる。使用する手段は、フィードバック回路によって浸漬液の流速および温度を制御することを含む。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

可動テーブルと、 放射線ビームを基板の放射線感受目標部分に投影する投影装置であって、最終部材を備える投影装置と、 前記投影装置と前記基板及び/または前記可動テーブルとの間の貯留部に温度制御された液体を供給するよう構成されている液体供給装置と、 前記放射線ビームによる前記基板の前記放射線感受目標部分への露光中に温度情報を測定するよう構成されている温度センサと、 測定された温度情報に基づいて、前記放射線ビームによる前記基板の前記放射線感受目標部分への前記露光中に、前記投影装置の光学特性を動的に調整するよう構成されている投影装置補償器と、を備えるリトグラフ装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

G03F7/20 521 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/22 H

Fターム (25件)：

2H197AA06 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197BA09 ,  2H197BA17 ,  2H197CC05 ,  2H197CC14 ,  2H197DA02 ,  2H197DA03 ,  2H197DB10 ,  2H197DB18 ,  2H197DB19 ,  2H197DB27 ,  2H197DC02 ,  2H197DC03 ,  2H197DC13 ,  2H197DC14 ,  2H197DC16 ,  2H197DC18 ,  2H197FA04 ,  2H197FB01 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開昭60-163046
  
• 特開平2-185016
  
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社
• 露光装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-122788   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭63-157419
  
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-248574   出願人：株式会社ニコン