特許
J-GLOBAL ID：201703018237122717

エピタキシャル成長装置及び保持部材

発明者：
小林 武史

小林 武史 について


出願人/特許権者：
信越半導体株式会社

信越半導体株式会社 について


代理人 (3件)： 張川 隆司 ,  山内 健吾 ,  米田 恵太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-011472
公開番号（公開出願番号）：特開2017-135147
出願日： 2016年01月25日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：
【課題】リフトピンとの位置関係を維持してリフトピンを保持することが可能な保持部材を有するエピタキシャル成長装置及びその保持部材を提供する。【解決手段】気相成長装置1は、サセプタ3と、リフトピン5と、サポートリング6を備える。サセプタ3は、表裏を貫通する貫通孔3bを有して軸線O回りに回転可能である。リフトピン5は、貫通孔3bに挿入される。サポートリング6は、リング部6aと板状部材6bを有してリング部6aと板状部材6bの間にリフトピン5を挟んで保持する。リング部6aは、軸線O回りに位置する。板状部材6bは、リング部6aに接続する接続部6b1を含み接続部6b1からリング部6aに沿って延びて接続部6b1を基点にリング部6aに向けて付勢する。【選択図】図5A
請求項（抜粋）：
表裏を貫通する貫通孔を有して軸線回りに回転可能なサセプタと、 前記貫通孔に挿入されるリフトピンと、 前記軸線回りに位置するリング部と、前記リング部に接続する接続部を含み前記接続部から前記リング部に沿って延びて前記接続部を基点に前記リング部に向けて付勢する弾性部材とを有する保持部材と、 前記保持部材は、前記リング部と前記弾性部材の間に前記リフトピンを挟んで保持することを特徴とするエピタキシャル成長装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/683
FI (4件)：
H01L21/205 ,  C23C16/44 F ,  C23C16/458 ,  H01L21/68 N
Fターム (32件)：
4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA29 ,  4K030BB02 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA06 ,  4K030GA12 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AB02 ,  5F045AC19 ,  5F045AF03 ,  5F045DP04 ,  5F045DP28 ,  5F045EK11 ,  5F045EM02 ,  5F045EM09 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F131AA02 ,  5F131BA04 ,  5F131CA02 ,  5F131CA18 ,  5F131EA24 ,  5F131EB53 ,  5F131EB72 ,  5F131EB78 ,  5F131EB81
引用特許：
出願人引用 (4件)
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