特許
J-GLOBAL ID:201703018717774064

反射スペクトルマッチングおよび表面動力学モデル最適化によるエッチングプロファイル最適化のための方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-020050
公開番号(公開出願番号):特開2017-143261
出願日: 2017年02月07日
公開日(公表日): 2017年08月17日
要約:
【課題】複数のモデルパラメータを使用して、半導体基板上のフィーチャのエッチングプロファイルを、独立入力パラメータのセットに関連付けるコンピュータモデルの最適化及びそれを実装するエッチングシステムを提供する。【解決手段】本方法は、独立入力パラメータについての1つ以上の値のセットに関して、モデルから生成された計算による反射スペクトルと対応する実験的反射スペクトルとの間の差異を示すメトリックを低減させるように、複数のモデルのパラメータの値の1つ以上に変更を加えることを含む。メトリックを計算することは、計算による反射スペクトルおよび対応する実験的反射スペクトルを、次元削減した部分空間に投影して、その部分空間に投影された反射スペクトル間の差異を計算する演算を含む。【選択図】図7A
請求項(抜粋):
複数のモデルパラメータを使用して、半導体基板上のフィーチャのエッチングプロファイルを、独立入力パラメータのセットに関連付けるコンピュータモデルを、最適化する方法であって、 (a)最適化対象のモデルパラメータの選択されたセットについて、値のセットを特定し、 (b)全体にわたり最適化する独立入力パラメータの選択されたセットについて、複数の値のセットを特定し、 (c)(b)で指定された値のセットの各々について、(b)で指定された前記値のセットを用いて実行した実験的エッチングプロセスの光学測定から生成された実験的反射スペクトルを受け取り、 (d)(b)で指定された値のセットの各々について、(a)および(b)で指定された前記値のセットを用いて、前記モデルから計算による反射スペクトルを生成し、 (e)(b)において前記選択された独立入力パラメータについて指定された1つ以上の値のセットに関して、(c)で受け取った前記実験的反射スペクトルと(d)において生成された対応する計算による反射スペクトルとの間の差異を示すメトリックを低減させるように、モデルパラメータの前記選択されたセットについて(a)において指定された値の1つ以上に変更を加え、前記変更された値のセットを用いて(d)を繰り返すこと、を備え、 (e)で前記メトリックを計算することは、 (1)前記計算による反射スペクトルと、対応する前記実験的反射スペクトルとの間の差異を計算し、前記差異を次元削減した部分空間に投影する演算、ならびに/または、 (2)前記計算による反射スペクトルおよび対応する前記実験的反射スペクトルを、次元削減した部分空間に投影して、前記部分空間に投影された反射スペクトル間の差異を計算する演算、を含む、方法。
IPC (2件):
H01L 21/306 ,  H01L 21/02
FI (2件):
H01L21/302 101G ,  H01L21/02 Z
Fターム (38件):
2G084AA02 ,  2G084AA04 ,  2G084AA05 ,  2G084AA08 ,  2G084BB13 ,  2G084BB14 ,  2G084BB27 ,  2G084CC12 ,  2G084CC13 ,  2G084CC33 ,  2G084DD02 ,  2G084DD03 ,  2G084DD13 ,  2G084DD15 ,  2G084DD24 ,  2G084DD40 ,  2G084DD55 ,  2G084FF04 ,  2G084FF15 ,  2G084FF18 ,  2G084FF21 ,  2G084FF23 ,  2G084FF33 ,  2G084FF40 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BB26 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004BD06 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA04 ,  5F004CA08 ,  5F004CA09 ,  5F004CB02 ,  5F004EA28
引用特許:
審査官引用 (4件)
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