感光性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：速水進治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-005012
公開番号（公開出願番号）：特開2014-137428
特許番号：特許第6094228号
出願日： 2013年01月15日
公開日（公表日）： 2014年07月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記式(1)で示される共重合体であるポリマーと、架橋剤と、感光材と、を含み、スピンコート法により成膜後、100°Cのホットプレートで120秒ベークすることで形成した第1の層の膜厚を第1の膜厚(第1の膜厚は、2μm以上3μm以下)とし、前記第1の層に対して、幅10μmのラインと幅10μmのスペースとが並んだラインパターンを有するマスクごしに、幅10μmのラインと幅10μmのスペースとを有するパターンが第1の層に形成される露光量で露光し、次いで、0.4質量%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で23°C、90秒間、浸漬法にて現像し、その後、純水で30秒間リンスし、次いで、2000rpmの条件でスピン乾燥した後の第2の層の膜厚を第2の膜厚とすると、{(第2の膜厚)/(第1の膜厚)}×100≧90を満たし、前記架橋剤は、少なくとも下記式(6)により示される構造の架橋剤を含む感光性樹脂組成物。 (式(1)中、 lおよびmはポリマー中におけるモル含有率を示し、 l+m=1であり、 nは0、1または2であり、 R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して水素または炭素数1〜30の有機基であり、 Aは下記式(2a)、(2b)、(2c)または(2d)により示される構造単位である) (式(2a)および式(2b)中、R5、R6およびR7は、それぞれ独立して炭素数1〜18の有機基である) (式中、R36は炭素数1〜10の炭化水素基、sは1〜30の整数、tは1〜6の整数である)

IPC (3件)：

G03F 7/023 ( 200 6.01) , G03F 7/004 ( 200 6.01) , C08F 232/04 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 7/023 , G03F 7/004 501 , C08F 232/04

引用特許：

審査官引用 (5件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-258836 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型ホトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-154644 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-257003 出願人：富士写真フイルム株式会社

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