自己現像層形成ポリマーおよびその組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (5件)：小野新次郎 , 小林泰 , 竹内茂雄 , 山本修 , 寺地拓己
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-520413
公開番号（公開出願番号）：特表2014-520935
出願日： 2012年07月16日
公開日（公表日）： 2014年08月25日
要約：

【課題】共重合体およびこの共重合体を含み自己現像膜の形成に有用で組成物を提供する。【解決手段】この共重合体は、ノルボルネン型繰り返し単位と無水マレイン酸型繰り返し単位とを含み、無水マレイン酸型の繰り返し単位の少なくとも一部が開環している。この共重合体組成物から形成される膜は、自己現像可能で、誘電率が低く、熱的に安定な、マイクロエレクトロニクスデバイスや光電子デバイスに有用な層を提供する。

請求項（抜粋）：

ノルボルネン型繰り返し単位と無水マレイン酸型繰り返し単位とを含む自己現像型ポリマーと、光活性化合物(PAC)と、少なくとも二つのエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、溶媒と、を備え、前記ノルボルネン-型繰り返し単位は下記式Iaで表され、これは下記式Iで表されるノルボルネン-型モノマーに由来し、

IPC (7件)：

C08L 63/00 , C08L 31/00 , C08L 45/00 , C08G 59/42 , C08F 222/06 , C08F 232/08 , C08F 8/14

FI (7件)：

C08L63/00 A , C08L31/00 , C08L45/00 , C08G59/42 , C08F222/06 , C08F232/08 , C08F8/14

Fターム (32件)：

4J002BH02X , 4J002BK00X , 4J002CD01W , 4J002CD04W , 4J002CD05W , 4J002GP03 , 4J002GQ01 , 4J002GQ05 , 4J002HA03 , 4J036AB02 , 4J036AC02 , 4J036AD08 , 4J036FB04 , 4J036GA29 , 4J036HA02 , 4J036JA10 , 4J100AK32P , 4J100AR11Q , 4J100AR11R , 4J100BA16H , 4J100BA23H , 4J100BB18R , 4J100BC43R , 4J100CA04 , 4J100CA31 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100HA13 , 4J100HB39 , 4J100HC09 , 4J100HE08 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (9件)

絶縁樹脂組成物及びその使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-520388 出願人：プロメラス,エルエルシー
新規な感酸性重合体及びこれを含有するレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-376255 出願人：コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド
耐腐食性が高められた多環式レジスト組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-532454 出願人：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー, インターナショナルビジネスマシーンズコーポレーション

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