特許
J-GLOBAL ID：201703020145083035

支持体分離装置及び支持体分離方法

発明者：
大石 誠士

大石 誠士 について

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中村 彰彦

中村 彰彦 について

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中田 公宏

中田 公宏 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-028387
公開番号（公開出願番号）：特開2017-147345
出願日： 2016年02月17日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
要約：
【課題】分離層を変質させることにより、積層体から脱離した基板及び支持体のうちの一方を、基板及び支持体のうちの他方の上において大きく位置ずれしないようにして保持する。【解決手段】支持体分離装置100は、分離層13を変質させた積層体16を載置するステージ1と、サポートプレート12を、基板15の上に保持する保持部7と、を備えており、保持部7は、積層体16の外周端部を囲うように配置されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板と、光を透過する支持体とを、光を照射することで変質する分離層を介して積層してなる積層体から、上記支持体を分離する支持体分離装置であって、 光を照射することで上記分離層を変質させた上記積層体を載置する載置台と、 上記載置台に載置された上記積層体の上側に位置する、上記基板又は上記支持体を、下側に位置する他方の上に保持する保持部と、を備えており、 上記保持部は、上記積層体の外周端部を囲うように配置されていることを特徴とする支持体分離装置。
IPC (2件)：
H01L 21/683 ,  H01L 21/304
FI (2件)：
H01L21/68 P ,  H01L21/304 622L
Fターム (44件)：
5F057AA12 ,  5F057AA31 ,  5F057BA21 ,  5F057BB03 ,  5F057CA14 ,  5F057DA11 ,  5F057EC10 ,  5F057EC20 ,  5F057FA02 ,  5F057FA22 ,  5F057FA28 ,  5F057FA30 ,  5F131AA02 ,  5F131BA52 ,  5F131BA53 ,  5F131CA18 ,  5F131CA23 ,  5F131DA13 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131DA54 ,  5F131DA67 ,  5F131EA07 ,  5F131EA22 ,  5F131EB01 ,  5F131EB03 ,  5F131EB31 ,  5F131EB32 ,  5F131EB36 ,  5F131EB54 ,  5F131EB56 ,  5F131EB58 ,  5F131EB63 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F131EC33 ,  5F131EC43 ,  5F131EC44 ,  5F131EC52 ,  5F131EC53 ,  5F131EC54 ,  5F131EC55 ,  5F131EC72 ,  5F131EC73
引用特許：
審査官引用 (5件)
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