特許
J-GLOBAL ID：201703020469976644

ステージ装置、リソグラフィ装置および物品の製造方法

発明者：
寺尾 勉

寺尾 勉 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-157967
公開番号（公開出願番号）：特開2014-022466
特許番号：特許第6057577号
出願日： 2012年07月13日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基準面を有する基台と、前記基準面に沿って移動可能なステージとを有するステージ装置であって、 前記ステージを第1方向に沿って案内するように前記第1方向に沿って延びた案内部材と、 前記案内部材における第1端側の第1部分および第2端側の第2部分に推力を加えることによって前記ステージを前記第1方向と異なる第2方向に駆動する駆動部と、 前記駆動部を制御する制御部と、 を含み、 前記制御部は、 前記第1部分に加える推力と前記第2部分に加える推力との合力が、前記ステージが前記案内部材の中央部分から前記第1方向にずれた位置にあるときよりも前記ステージが前記中央部分の位置にあるときの方が大きくなるように前記駆動部を制御し、 前記ステージが前記中央部分から前記第1方向にずれた位置にあるときに、前記第1部分および前記第2部分のうち前記ステージから遠い方に加える推力が前記ステージに近い方に加える推力より小さくなるように前記駆動部を制御することを特徴とするステージ装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D ,  H01L 21/68 K
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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