特許

J-GLOBAL ID：201703021078394949

微細パタン形成用積層体

発明者： 佐伯 宏之 ,  古池 潤 ,  山口 布士人
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
代理人 (3件)： 青木 宏義 ,  天田 昌行 ,  三輪 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-015190
公開番号（公開出願番号）：特開2017-135304
出願日： 2016年01月29日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：

【課題】離型性及びドライエッチング耐性を維持しつつ、モールドの形状転写性の高い微細パタン形成用積層体を提供する。【解決手段】微細パタン形成用積層体(100)は、2面以上の主面を有する支持基材(101)の少なくとも一方の主面側に有機層(102)が形成される。また、支持基材(101)の有機層(102)側に微細パタン(101a)が存在する。ここで、有機層(102)を構成する組成物は、高分子界面活性剤を1種以上含有する。高分子界面活性剤は、シリコーン系界面活性剤である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

2面以上の主面を有する支持基材の少なくとも一つの主面側に有機層が形成され、前記支持基材の前記有機層側に凹凸構造が存在し、前記有機層を構成する組成物が高分子界面活性剤を1種以上含有することを特徴とする微細パタン形成用積層体。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B32B 27/18 ,  B32B 3/30

FI (3件)：

H01L21/30 502D ,  B32B27/18 Z ,  B32B3/30

Fターム (31件)：

4F100AG00 ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK01D ,  4F100AK01E ,  4F100AK17 ,  4F100AK41 ,  4F100AK52B ,  4F100AL05B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA10E ,  4F100CA18B ,  4F100DD01A ,  4F100EH46 ,  4F100EH66 ,  4F100EJ15 ,  4F100EJ54 ,  4F100JA07B ,  4F100JB05B ,  4F100JB06B ,  4F100JB14 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  5F146AA31 ,  5F146AA32 ,  5F146AA33 ,  5F146AA34

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 光インプリント用硬化性組成物およびそれを用いた硬化物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-164773   出願人：富士フイルム株式会社
• インプリントリソグラフィ用の材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-258521   出願人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド, ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• 微細パタン形成用積層体及び微細パタン形成用積層体の製造方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2012065494   出願人：旭化成株式会社
• 微細構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-356074   出願人：旭硝子株式会社
• 微細マスク形成用積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-145803   出願人：旭化成株式会社