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J-GLOBAL ID:201802245451467219   整理番号:18A0998897

熱放射誘起局所リフローによるPMMAの表面粗さを低減するための効果的アプローチ【JST・京大機械翻訳】

An effective approach for reducing surface roughness of PMMA by thermal radiation induced local reflow
著者 (4件):
資料名:
巻: 196  ページ: 1-6  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0406B  ISSN: 0167-9317  CODEN: MIENEF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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レジストにおけるリソグラフィー生成パターンの表面粗さとラインエッジ粗さ(LER)を含む粗さは,リソグラフィーにおける最小特徴サイズの更なる低減を制限するので,半導体産業における最も重要な問題の一つである。開発条件と開発者,開発中の超音波撹はん,熱リフローなどを変化させることにより,粗さを減少させる試みが膨大になっているにもかかわらず,その進歩はまだ満足されていない。本論文では,熱放射誘起局所リフロー(TRILR)と呼ばれるプロセスにより,PMMA表面上の表面粗さを低減する新しい効果的な方法を初めて報告した。このプロセスの基本動作原理を最初に包括的に記述した。種々のスケールの粗さを有するPMMA表面を,グレイスケール電子線リソグラフィー(EBL)により意図的に作製した。TRILRプロセスによる粗さの減少を原子間力顕微鏡(AFM)により定量的に特性化した。処理条件の異なるPMMA表面での光学スペクトルも処理表面の著しい改善を示した。この新しい方法は,高温でガラス転移過程を起こすことができるすべての正のトーンレジストに適用できると信じられる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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