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J-GLOBAL ID：201802260046091642   整理番号：18A1011319

プラズマ技術 表面処理 MVP法による超高速成膜・表面加工技術と細穴内面プラズマ成膜への展開

Ultra-high-speed Surface Manufacturing Employing MVP Method and its Application to Internal Plasma Coating of Narrow Holes

著者 (2件)： 上坂裕之 (岐阜大 工) ,  上坂裕之 (岐阜大 地域連携スマート金型技術研究セ)
資料名： 自動車技術  (Journal of Society of Automotive Engineers of Japan)
巻： 72  号： 6  ページ： 68-73  発行年： 2018年06月01日 
JST資料番号： F0387A  ISSN： 0385-7298  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プラズマ支援表面製造において,処理速度は,高密度プラズマを用いることによって増加することができる。マイクロ波の表面波伝搬を用いたMVP(マイクロ波シース電圧結合プラズマ)法を,金属基板を囲む低圧で非平衡な高密度プラズマを発生させる有効な方法として調べた。本レビューでは,MVP法の利点に基づく研究開発の例を紹介した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 構成 ,  *表面加工 ,  *プラズマ ,  研究開発 ,  *表面処理 ,  プラズマさや ,  *ダイヤモンド状炭素 ,  細孔 ,  内面 ,  電磁波伝搬 ,  *マイクロ波 ,  *プラズマCVD ,  プラズマシミュレーション ,  事例研究 ,  *高密度プラズマ ,  処理速度 ,  金属基板 ,  薄膜形成 ,  計算機利用 ,  利用
準シソーラス用語： 成膜

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (24件)：

• 電気学会・プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会, プラズマイオンプロセスとその応用, オーム社 (2005)
• H. Kousaka, N. Umehara, K. Ono, J. Q. Xu: Microwave-excited high-density plasma column sustained along metal rod at negative voltage, Japanese Journal of Applied Physics Part 2, 44(33-36), p.L1154-L1157 (2005)
• H. Kousaka, N. Umehara: Study on the axial uniformity of surface wave-excited plasma column sustained along a metal rod, Trans. Mat. Res. Soc. Japan, 31 (2), p. 487-490 (2006)
• H. Kousaka, J. Q. Xu, N. Umehara Pressure dependence of surface wave-excited plasma column sustained along metal rod antenna, Vacuum, 80 (11-12), p. 1154-1160 (2006)
• N. Win Khun, A. Neville, I. Kolev, H. Zhao Effects of Substrate Bias on Tribological Properties of Diamondlike Carbon Thin Films Deposited Via Microwave-Excited Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, Journal of Tribology, 138 (3), p. 031301-1-031301-6 (2016)

タイトルに関連する用語 (8件)： プラズマ ,  表面処理 ,  MVP ,  高速成膜 ,  表面加工 ,  細穴 ,  成膜 ,  展開