文献

J-GLOBAL ID：200902261394780367   整理番号：05A0921098

負電圧で金属ロッドに沿って保持されたマイクロ波励起の高密度プラズマ柱

Microwave-Excited High-Density Plasma Column Sustained along Metal Rod at Negative Voltage

著者 (4件)： KOUSAKA Hiroyuki (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  UMEHARA Noritsugu (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ONO Kouichi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  XU Junqi (Xi’an Inst. Technol., Xi’an, CHN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 44  号： 33-36  ページ： L1154-L1157  発行年： 2005年09月10日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 負電圧で黒鉛ロッドに沿って保持されたマイクロ波励起のプラズマ...

シソーラス用語： *高周波放電 ,...
準シソーラス用語： 黒鉛

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0921098&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0599B") }}

分類 (1件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E)

引用文献 (11件)：

• 1) Yu. M. Aliev, H. Schlüter and A. Shivarova: Guided-Wave-Produced Plasmas (Springer, Berlin, 2000) p. 1.
• 2) K. Komachi and S. Kobayashi: J. Microwave Power Electromagn. Energy 24 (1989) 140.
• 3) M. Tuda, K. Ono, H. Ootera, M. Tsuchihashi, M. Hanazaki and T. Komemura: J. Vac. Sci. Technol. A 18 (2000) 840.
• 4) H. Kousaka and K. Ono: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 2199.
• 5) H. Kousaka and K. Ono: Plasma Sources Sci. Technol. 12 (2003) 273.

タイトルに関連する用語 (5件)： 負電圧 ,  ロッド ,  マイクロ波 ,  励起 ,  高密度プラズマ