文献

J-GLOBAL ID：201802265402727446   整理番号：18A2105527

結晶Si上のTiO_x不動態化層の活性化機構

Activation mechanism of TiO_x passivating layer on crystalline Si

著者 (8件)： MOCHIZUKI Takeya (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  GOTOH Kazuhiro (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  OHTA Akio (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  OGURA Shohei (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  KUROKAWA Yasuyoshi (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  MIYAZAKI Seiichi (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  FUKUTANI Katsuyuki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  USAMI Noritaka (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 11  号： 10  ページ： 102301.1-102301.4  発行年： 2018年10月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siヘテロ接合太陽電池に対する理想的なバンド配列と低いキャリア再結合を有する優れた電子選択的接触と見なされる,結晶シリコン(c-Si)上への原子層堆積により調製した酸化チタン(TiO_x)の活性化機構を報告した。表面不動態化の活性化エネルギーは約0.37eVであり,これはTiO_x/c-Si界面における化学結合状態の顕著な変換と関連していることを示した。詳細な解析により,Si-O結合は,界面でのSi-HおよびSi-H₂結合の解離および酸素原子によるその後の終端により,ポストアニーリング後に形成されることを確認した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *結晶 ,  *酸化チタン ,  不動態皮膜 ,  *反応機構 ,  太陽電池 ,  *アラインメント ,  キャリア再結合 ,  化学蒸着 ,  活性化エネルギー ,  化学結合 ,  解離 ,  原子 ,  成端 ,  焼なまし
準シソーラス用語： *シリコン結晶 ,  *活性化機構 ,  ヘテロ接合太陽電池 ,  *バンド整列 ,  原子層堆積 ,  酸素原子 ,  終端 ,  ポストアニーリング

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  表面の電子構造  (BM02080J)

引用文献 (31件)：

• K. Masuko, M. Shigematsu, T. Hashiguchi, D. Fujishima, M. Kai, N. Yoshimura, T. Yamaguchi, Y. Ichihashi, T. Mishima, N. Matsubara, T. Yamanishi, T. Takahama, M. Taguchi, E. Maruyama, and S. Okamoto, IEEE J. Photovoltaics 4, 1433 (2014).
• M. Taguchi, A. Yano, S. Tohoda, K. Matsuyama, Y. Nakamura, T. Nishiwaki, K. Fujita, and E. Maruyama, IEEE J. Photovoltaics 4, 96 (2014).
• D. Adachi, J. L. Hernández, and K. Yamamoto, Appl. Phys. Lett. 107, 233506 (2015).
• M. A. Green, K. Emery, Y. Hishikawa, W. Warta, and E. D. Dunlop, Prog. Photovoltaics 21, 1 (2013).
• A. A. Langford, M. L. Fleet, B. P. Nelson, W. A. Lanford, and N. Maley, Phys. Rev. B 45, 13367 (1992).

タイトルに関連する用語 (4件)： 結晶Si ,  TiOx ,  不動態化 ,  活性化機構