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J-GLOBAL ID：201802267099711741   整理番号：18A1330582

弱衝突性プレシースを含む静的シースの半解析モデル

Semi-analytical model for a static sheath including a weakly collisional presheath

著者 (2件)： SHIRAFUJI Tatsuru (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  DENPOH Kazuki (Tokyo Electron Technol. Solutions Ltd., Yamanashi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 6S2  ページ： 06JG02.1-06JG02.8  発行年： 2018年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *RIE【エッチング】 ,  *プラズマさや ,  *解析モデル ,  *電子密度 ,  *速度分布 ,  空間電荷 ,  プラズマパラメータ
準シソーラス用語： *反応性イオンエッチング ,  *プラズマシース ,  *イオン速度分布 ,  プラズマポテンシャル

分類 (3件)： 電離現象  (BJ02100Z) ,  プラズマ診断  (BJ02090L) ,  計算機シミュレーション  (JE11000H)

引用文献 (68件)：

• C. B. Zarowin and R. S. Horwath, J. Electrochem. Soc. 129, 2541 (1982).
• J. W. Coburn and H. F. Winters, J. Vac. Sci. Technol. 16, 391 (1979).
• J. W. Coburn and H. F. Winters, J. Appl. Phys. 50, 3189 (1979).
• J.-K. Lee, S.-H. Lee, J.-H. Min, I.-Y. Jang, C.-K. Kim, and S. H. Moon, J. Electrochem. Soc. 156, D222 (2009).
• S. A. Cybart, P. Roediger, E. Ulin-Avila, S. M. Wu, T. J. Wong, and R. C. Dynes, J. Vac. Sci. Technol. B 31, 010604 (2013).

タイトルに関連する用語 (3件)： 衝突 ,  シース ,  解析モデル