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J-GLOBAL ID：201802273291080294   整理番号：18A0116470

X線を用いた熱化学異方性エッチングによるPTFEの微細加工プロセスの検討

Study on Microfabrication of Polytetrafluoethylene using X-ray-induced Pyrochemical Anisotropic Etching

著者 (4件)： 山口明啓 (兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所) ,  木戸秀樹 (兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所) ,  竹内雅耶 (兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所) ,  内海裕一 (兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所)
資料名： 電気学会論文誌 E  (IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines)
巻： 137  号： 12  ページ： 417-421(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： L3098A  ISSN： 1341-8939  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本論文では,X線によるPTFEの直接微細加工による切削過程の機構究明に関する実験を行った。X線照射同時加熱法では,大面積の加工を行うとX線マスクとPTFEの熱膨張係数の差異によって照射中心から離れるとパターン歪みが大きくなることが分かった。この問題を解決する方法として,非加熱X線照射を行い,後から加熱によってエッチングを行う熱選択的エッチング法を発見し,加工プロセスの確立を行った。さらに,X線照射時の熱交換機構としてHe分圧を制御することで,X線照射時のPTFE基板の発熱を下げて,化学量論組成に基づいたエッチング過程が進行している可能性が示唆された。

シソーラス用語： *X線照射 ,  *シンクロトロン放射 ,  *ポリテトラフルオロエチレン ,  マイクロフルイディクス ,  *エッチング ,  FTIR分光法 ,  *微細加工 ,  X線マスク ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  高分子薄膜 ,  金型 ,  微細構造
準シソーラス用語： *異方性エッチング ,  マイクロ金型

著者キーワード (12件)： 放射光 ,  ポリテトラフルオロエチレン(PTFE) ,  マイクロ化学チップ ,  X線加工 ,  フーリエ変換赤外分光 ,  熱化学異方性エッチング ,  Synchrotron Radiation ,  Polytetrafluoethylene (PTFE) ,  microfluidic chip ,  X-ray irradiation etching ,  FT-IR spectroscopy ,  Pyrochemical anisotropic etching

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (16件)：

• (1) Y. Zhang, T. Katoh, M. Washio, H. Yamada, and S. Hamada : “High aspect ratio micromachining Teflon by direct exposure to synchrotron radiation”, Appl. Phys. Lett., Vol. 67, p. 872 (1995)
• (2) Y. Zhang and T. Katoh : “Synchrotron Radiation Micromachining of Polymers to Produce High-Aspect-Ratio Microparts”, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 35, L186 (1996)
• (3) M. Inayoshi, M. Ikeda, M. Hori, T. Goto, M. Hiramatsu, and A. Hiraya : “High-Rate Anisotropic Ablation and Deposition of Polytetrafluoroethykene Using Synchrotron Radiation Process”, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 34, L1675 (1995)
• (4) H. Nagai, M. Inayoshi, M. Hori, T. Goto, and M. Hiramatsu : “On the mechanism of polytetrafluoroethylene ablation using a synchrotron radiation-induced photochemical process”, Appl. Surf. Sci., Vol. 183, p. 284 (2001)
• (5) Y. Ukita, M. Kishihara, K. Kanda, S. Matsui, K. Mochiji, and Y. Utsumi : “Fabrication of Polytetrafluoroethylene Microparts by High-Energy X-ray-Induced Etching”, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 47, p. 337 (2008)

タイトルに関連する用語 (6件)： X線 ,  熱化学 ,  異方性エッチング ,  PTFE ,  微細加工 ,  プロセス