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J-GLOBAL ID：201802290784345770   整理番号：18A0977065

CuOナノ粒子を用いたフェムト秒レーザー還元直接描画法

Direct-Writing Technique Using Femtosecond Laser Reductive Sintering of CuO Nanoparticles

著者 (2件)： 溝尻瑞枝 (長岡技科大) ,  秦誠一 (名古屋大 大学院)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 46  号： 5  ページ： 257-261  発行年： 2018年05月20日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 金属酸化物ナノ粒子のフェムト秒レーザ還元焼結を用いて,2Dおよび3D金属微細構造を直接描画した。CuOナノ粒子,還元剤,分散剤を含むCuOナノ粒子溶液をガラス基板上に被覆した。次に,集束フェムト秒レーザパルスを溶液膜に照射し,空気中で微細構造を書き込んだ。最後に,非照射CuOナノ粒子を除去した。レーザ照射条件を制御することにより,CuリッチおよびCu₂Oリッチ微細構造を選択的に作製した。このプロセスを二次元Cu/Cu₂O微小温度センサと三次元Cuリッチマイクロフローセンサの作製に適用した。このプロセスは空気中の任意形状基板上の種々のセンサの作製に有用であると考えられる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  フェムト秒レーザ ,  電子ビームリソグラフィー ,  *酸化第二銅 ,  還元 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  レーザパルス ,  レーザ照射 ,  温度センサ ,  還元剤 ,  金属酸化物 ,  微細構造 ,  分散剤 ,  *レーザリソグラフィー ,  ガラス基板 ,  *酸化銅ナノ粒子 ,  選択的レーザ焼結 ,  温度計 ,  計測器 ,  焼結 ,  熱処理 ,  処理
準シソーラス用語： レーザ焼結 ,  *レーザ直接描画 ,  直接描画

分類 (3件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

引用文献 (20件)：

• 菅沼克昭,棚綱 宏:プリンテッド・エレクトロニクス技術,工業調査会.
• H. J. Gysling: Curr. Opinion Coll. & Interface Sci. 19 (2014) 155.
• Ph. Buffat and J.-P. Borel: Phys. Rev. A13 (1976) 2287.
• M. Aminuzzaman, A. Watanabe, and T. Miyashita: J. Nanoparticle Res. 12 (2010) 931.
• S. Jong, D. J. Lee, D. Lee, and J. H. Oh: Thin Sol. Films 546 (2013) 157.

タイトルに関連する用語 (4件)： CuOナノ粒子 ,  フェムト秒レーザー ,  還元 ,  直接描画