特許
J-GLOBAL ID:201803000902453364

蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 特許業務法人 インテクト国際特許事務所 ,  石橋 良規
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-079991
公開番号(公開出願番号):特開2018-119217
出願日: 2018年04月18日
公開日(公表日): 2018年08月02日
要約:
【課題】大型化した場合でも高精細化と軽量化の双方を満たし、蒸着マスクを用いた製造過程における歩留まりの向上や、品質の向上が可能な蒸着マスク、蒸着マスク準備体、さらには、蒸着マスクを用いた有機半導体素子の製造方法を提供すること。【解決手段】蒸着作製するパターンに対応する開口部25が設けられた樹脂マスク20の一方の面上に、前記開口部25と重なるスリット15が設けられた金属マスク10が積層されてなる蒸着マスク100において、金属マスク10の樹脂マスク20と接する側の面の一部に、複数のアライメントマーク40を設け、当該複数のアライメントマーク40のうちの少なくとも1つを、樹脂マスク20の一方の面と接しないように位置させることで上記課題を解決している。【選択図】図1
請求項(抜粋):
蒸着作製するパターンに対応する開口部が設けられた樹脂マスクの一方の面上に、前記開口部と重なるスリットが設けられた金属マスクが積層されてなる蒸着マスクであって、 前記金属マスクの前記樹脂マスクと接する側の面の一部に、複数のアライメントマークが設けられ、当該複数のアライメントマークのうちの少なくとも1つは、前記樹脂マスクの一方の面と接していないことを特徴とする蒸着マスク。
IPC (3件):
C23C 14/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10
FI (3件):
C23C14/04 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10
Fターム (10件):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC35 ,  3K107CC45 ,  3K107FF15 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  3K107GG54 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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