特許
J-GLOBAL ID:201803001316251538
窒化物半導体積層物および半導体装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (4件):
福岡 昌浩
, 阿部 廣美
, 橘高 英郎
, 白鳥 昌宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-247642
公開番号(公開出願番号):特開2018-078315
出願日: 2017年12月25日
公開日(公表日): 2018年05月17日
要約:
【課題】半導体装置の長期的な信頼性を向上させることができる技術を提供する。【解決手段】基板と、基板上に設けられ、III族窒化物半導体からなる電子走行層と、電子走行層上に設けられ、III族窒化物半導体からなる電子供給層と、を有し、Crにより被覆された直径1mmのガラス球からなる測定子を用いて測定したときの、該測定子と電子供給層の表面とを引き寄せる引力として働く電子供給層の表面力Aは、同じ条件で測定したときのPtの表面力Bよりも強く、それらの差の絶対値|A-B|が30μN以上である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板と、
前記基板上に設けられ、III族窒化物半導体からなる電子走行層と、
前記電子走行層上に設けられ、前記電子走行層よりも広いバンドギャップを有し、AlxInyGa1-x-yN(0<x≦1、0≦y≦1、0<x+y≦1)の組成式で表されるIII族窒化物半導体からなる電子供給層と、
を有し、
Crにより被覆された直径1mmのガラス球からなる測定子を用いて測定したときの、該測定子と前記電子供給層の表面とを引き寄せる引力として働く前記電子供給層の表面力Aは、同じ条件で測定したときのPtの表面力Bよりも強く、それらの差の絶対値|A-B|が30μN以上である
窒化物半導体積層物。
IPC (5件):
H01L 21/338
, H01L 29/778
, H01L 29/812
, H01L 21/205
, H01L 21/66
FI (3件):
H01L29/80 H
, H01L21/205
, H01L21/66 L
Fターム (42件):
4M106AA01
, 4M106AA10
, 4M106BA20
, 4M106CA04
, 4M106CA56
, 4M106DH60
, 4M106DJ27
, 4M106DJ38
, 5F045AA04
, 5F045AB14
, 5F045AB17
, 5F045AC08
, 5F045AC12
, 5F045AC15
, 5F045AC17
, 5F045AD14
, 5F045AD15
, 5F045AD16
, 5F045AF02
, 5F045AF09
, 5F045AF14
, 5F045BB16
, 5F045CA07
, 5F045DA53
, 5F045GB01
, 5F102FA09
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD01
, 5F102GJ02
, 5F102GJ04
, 5F102GJ10
, 5F102GK04
, 5F102GK08
, 5F102GL04
, 5F102GQ01
, 5F102GR01
, 5F102GS01
, 5F102GT01
, 5F102GV08
, 5F102HC01
, 5F102HC07
引用特許:
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