特許

J-GLOBAL ID：201803002567025894

保持装置及び保持方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 神山 隆英
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-141982
公開番号（公開出願番号）：特開2018-194853
出願日： 2018年07月30日
公開日（公表日）： 2018年12月06日
要約：

【課題】歪みを生ずることなくウエハをステージ上に載置する。【解決手段】音圧源(超音波スピーカ150)を用いてウエハステージWST(ウエハホルダWH)上に載置されたウエハWに向けて音圧(超音波)を放射することでウエハを音圧加振し、そして、ウエハホルダWHを用いてウエハを吸着保持する。これにより、歪みを生ずることなくウエハを保持し、ウエハホルダ上に載置することが可能となり、ひいては高いパターンの重ね精度を維持することが可能となる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

物体を保持する保持装置であって、 物体を保持するホルダと、 音圧を発生する音圧源と、 を備え、前記音圧により前記ホルダ上に載置された前記物体を加振する保持装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

G03F7/20 521 ,  H01L21/68 N

Fターム (40件)：

2H197AA09 ,  2H197CD02 ,  2H197CD12 ,  2H197CD25 ,  2H197CD29 ,  2H197CD44 ,  2H197CD50 ,  2H197DB31 ,  2H197DC03 ,  2H197DC07 ,  2H197HA03 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10 ,  5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131AA32 ,  5F131BA13 ,  5F131CA08 ,  5F131CA22 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131DB27 ,  5F131DB43 ,  5F131EA02 ,  5F131EA22 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EB01 ,  5F131EB72 ,  5F131KA03 ,  5F131KA14 ,  5F131KA16 ,  5F131KA34 ,  5F131KA44 ,  5F131KA47 ,  5F131KB04 ,  5F131KB07 ,  5F131KB12 ,  5F131KB32 ,  5F131KB53

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 塗布方法及び塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-326180   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理方法、及び基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-210446   出願人：株式会社ニコン
• 半導体露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-092950   出願人：キヤノン株式会社