基板処理方法、及び基板処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 西和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-210446
公開番号（公開出願番号）：特開2011-059489
出願日： 2009年09月11日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：

【課題】不良デバイスの発生を抑制でき、デバイスの生産性の低下を抑制できる基板処理方法を提供する。【解決手段】保持部に搬送された基板に対して第1手順に対応した第1処理を実行する基板処理方法は、保持部に搬送された基板の歪みに関する情報を検出することと、歪みに関する情報に基づいて、基板に対して第1処理と異なる第2処理の要否を判断することと、を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

保持部に搬送された基板に対して第1手順に対応した第1処理を実行する基板処理方法であって、前記保持部に搬送された前記基板の歪みに関する情報を検出することと、前記歪みに関する情報に基づいて、前記基板に対して前記第1処理と異なる第2処理の要否を判断することと、を含む基板処理方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 , H01L 21/683 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/20 501 , H01L21/68 P , H01L21/30 503A , H01L21/30 516A

Fターム (46件)：

2H097BA10 , 2H097DB07 , 2H097DB11 , 2H097GB00 , 2H097LA12 , 5F031CA05 , 5F031DA13 , 5F031FA03 , 5F031GA41 , 5F031HA07 , 5F031HA08 , 5F031HA14 , 5F031HA58 , 5F031JA02 , 5F031JA10 , 5F031JA22 , 5F031JA32 , 5F031MA27 , 5F031PA04 , 5F031PA13 , 5F031PA14 , 5F031PA30 , 5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC08 , 5F046CC10 , 5F046CC11 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046DA05 , 5F046DB03 , 5F046DB05 , 5F046DC11 , 5F146BA03 , 5F146CC01 , 5F146CC08 , 5F146CC10 , 5F146CC11 , 5F146CD01 , 5F146CD05 , 5F146CD06 , 5F146DA05 , 5F146DB03 , 5F146DB05 , 5F146DC11

引用特許：

審査官引用 (12件)

基板保持装置、及びそれを用いたリソグラフィー装置、並びにデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-063566 出願人：キヤノン株式会社
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-061650 出願人：東京エレクトロン株式会社
計測方法、基板保持方法、基板保持装置及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-332185 出願人：株式会社ニコン

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