特許
J-GLOBAL ID：201803003493313210

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
嶋田 雅彦

嶋田 雅彦 について

, 
市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-038328
公開番号（公開出願番号）：特開2018-145186
出願日： 2018年03月05日
公開日（公表日）： 2018年09月20日
要約：
【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される化合物。[式(I)中、R1はH又はメチル基、X1はエステル結合又はフェニルオキシル基、X2は-CO-O-等、L1は単結合等、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルカンジイル基等、Xa及びXbはそれぞれ独立にO又はS、R2及びR3はアルキル基等、R4は環状炭化水素基等を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される化合物。
IPC (7件)：
C07D 319/06 ,  C08F 12/06 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/20
FI (8件)：
C07D319/06 ,  C08F12/06 ,  C08F20/10 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/20 521
Fターム (66件)：
2H197AA05 ,  2H197AA12 ,  2H197BA17 ,  2H197CA01 ,  2H197CA06 ,  2H197CA07 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197DB11 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF11P ,  2H225AF16P ,  2H225AF22P ,  2H225AF53P ,  2H225AF67P ,  2H225AF71P ,  2H225AF99P ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AH23 ,  2H225AJ12 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ55 ,  2H225AJ58 ,  2H225AM23P ,  2H225AM27P ,  2H225AN38P ,  2H225AN39P ,  2H225AN45P ,  2H225AN54P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225BA29P ,  2H225CA12 ,  2H225CB10 ,  2H225CC01 ,  2H225CC15 ,  2H225CD05 ,  4C022GA09 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA20S ,  4J100BA20T ,  4J100BC03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09T ,  4J100BC53S ,  4J100BC58T ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100GC07 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (3件)
引用文献：
審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM