特許
J-GLOBAL ID：201803004249111806

インプリントモールド用基材及びインプリントモールド

発明者：
吉田 幸司

吉田 幸司 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 太田 昌孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-138451
公開番号（公開出願番号）：特開2018-166227
出願日： 2018年07月24日
公開日（公表日）： 2018年10月25日
要約：
【課題】微細凹凸パターンの倍率が所望とする範囲を超えてしまうのを防止し得るインプリントモールド用基材及び当該インプリントモールド用基材を用いて得られるインプリントモールドを提供する。【解決手段】インプリントモールド用基材1は、第1の面2a及び当該第1の面2aに対向する第2の面2bを有する基部2を備え、第2の面2b側の平面視略中央に窪み部4が形成されており、第2の面2b側における窪み部4の周囲の領域内に、基準体積以上の凹凸体積を有する凹部が存在しない。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部を備え、 微細凹凸パターンの形成されるパターン領域が前記第1の面側に設定されており、 前記第2の面側の平面視略中央に窪み部が形成されており、 前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域内に、基準体積以上の凹凸体積を有する凹部が存在せず、 前記基準体積は、下記数式(1)及び(2)から算出される前記凹部の半径と最大たわみ量との関係に基づいて求められる前記パターン領域に許容される許容変形量に応じた体積であることを特徴とするインプリントモールド用基材。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38
FI (3件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B ,  B29C33/38
Fターム (24件)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AJ06 ,  4F202AR13 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD23 ,  4F202CK12 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AR13 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA32
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM