特許
J-GLOBAL ID：201803004367808099

基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体

発明者：
佐藤 秀明

佐藤 秀明 について

, 
佐藤 尊三

佐藤 尊三 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 内野 美洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-129797
公開番号（公開出願番号）：特開2018-152622
出願日： 2018年07月09日
公開日（公表日）： 2018年09月27日
要約：
【課題】基板液処理装置において、濃度センサの故障等を防止する。【解決手段】本発明では、基板(8)を処理するための処理液を貯留する処理液貯留部(38)と、前記処理液貯留部(38)に前記処理液を供給する処理液供給部(39)と、前記処理液を排出させる処理液排出部(41)と、前記処理液中の濃度を計測する濃度センサ(61)と、前記濃度センサ(61)と接続され、前記処理液供給部(39)と処理液排出部(41)とを制御する制御部(7)とを有し、前記制御部(7)は、前記処理液を前記処理液排出部(41)から排出させるとともに、前記処理液供給部(39)から新たな前記処理液を供給させ、前記処理液の一部だけを前記濃度センサ(61)に接液させて前記処理液中の濃度を計測させて前記処理液排出部(41)から排出される前記処理液よりも前記濃度センサ(61)に接液させる前記処理液が少なくなるようにした。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板を処理するための処理液を貯留する処理液貯留部と、 前記処理液貯留部に前記処理液を供給する処理液供給部と、 前記処理液を排出させる処理液排出部と、 前記処理液中の濃度を計測する濃度センサと、 前記濃度センサと接続され、前記処理液供給部と処理液排出部とを制御する制御部と、 を有し、 前記制御部は、前記処理液を前記処理液排出部から排出させるとともに、前記処理液供給部から新たな前記処理液を供給させ、前記処理液の一部だけを前記濃度センサに接液させて前記処理液中の濃度を計測させて前記処理液排出部から排出される前記処理液よりも前記濃度センサに接液させる前記処理液が少なくなるようにすることを特徴とする基板液処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/304
FI (5件)：
H01L21/306 J ,  H01L21/306 B ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648F
Fターム (36件)：
5F043AA40 ,  5F043BB30 ,  5F043EE22 ,  5F043EE23 ,  5F043EE27 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F157AA63 ,  5F157AB03 ,  5F157AB13 ,  5F157AB34 ,  5F157AB48 ,  5F157AB74 ,  5F157AC01 ,  5F157AC56 ,  5F157BB04 ,  5F157BB06 ,  5F157BB66 ,  5F157CB03 ,  5F157CB14 ,  5F157CD33 ,  5F157CD34 ,  5F157CE10 ,  5F157CE11 ,  5F157CE36 ,  5F157CE37 ,  5F157CF04 ,  5F157CF14 ,  5F157CF34 ,  5F157CF42 ,  5F157CF44 ,  5F157CF60 ,  5F157CF74 ,  5F157DA43 ,  5F157DC82 ,  5F157DC86
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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