特許

J-GLOBAL ID：201303089145085771

液処理装置、液処理方法および液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体

発明者： 小 宮 洋 司 ,  江 嶋 和 善
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (8件)： 勝沼 宏仁 ,  永井 浩之 ,  磯貝 克臣 ,  名塚 聡 ,  岡田 淳平 ,  森 秀行 ,  堀田 幸裕 ,  山下 和也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-039038
公開番号（公開出願番号）：特開2013-175592
出願日： 2012年02月24日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
要約：

【課題】純水と硫酸とを含む、基板を処理するための混合薬液の生成時間を短縮することができる液処理装置を提供する。【解決手段】本発明による液処理装置200は、純水供給部20と、純水供給開閉弁27と、硫酸供給部30と、硫酸供給開閉弁34と、純水と硫酸とを調合して混合薬液を生成する調合タンク11、12と、生成された混合薬液により基板Wを液処理する液処理部210と、を備えている。調合タンク11、12に、循環ポンプ101を含む循環ライン100が連結されている。制御部300は、調合タンク11、12への純水の供給を開始した後、循環ポンプ101の駆動を開始し、その後、調合タンク11、12への硫酸の供給を開始するように、純水供給開閉弁26、硫酸供給開閉弁34および循環ポンプ101を制御する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

純水供給部と、 硫酸供給部と、 前記純水供給部から供給される純水と、前記硫酸供給部から供給される硫酸とを調合して混合薬液を生成する調合タンクと、 前記調合タンクに連結され、当該調合タンクにおいて生成された混合薬液により基板を液処理する液処理部と、 前記純水供給部と前記調合タンクとの間に設けられた純水供給開閉弁と、 前記硫酸供給部と前記調合タンクとの間に設けられた硫酸供給開閉弁と、 前記調合タンクに連結され、循環ポンプを含む循環ラインと、 前記純水供給開閉弁、前記硫酸供給開閉弁および前記循環ポンプを制御する制御部と、を備え、 前記制御部は、前記調合タンクへの純水の供給を開始する工程と、前記調合タンクへの純水の供給を開始する工程の後、前記循環ポンプの駆動を開始する工程と、前記循環ポンプの駆動を開始する工程の後、前記硫酸供給部から前記調合タンクへの硫酸の供給を開始する工程とを行うように、前記純水供給開閉弁、前記硫酸供給開閉弁および前記循環ポンプを制御することを特徴とする液処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648K ,  C23F1/08 101 ,  H01L21/30 572B

Fターム (38件)：

4K057WA01 ,  4K057WB06 ,  4K057WE03 ,  4K057WE07 ,  4K057WE25 ,  4K057WG03 ,  4K057WM17 ,  4K057WM20 ,  4K057WN01 ,  5F146MA02 ,  5F146MA03 ,  5F146MA10 ,  5F157AA64 ,  5F157AA91 ,  5F157AC01 ,  5F157BC03 ,  5F157BC12 ,  5F157BC13 ,  5F157BC41 ,  5F157BC53 ,  5F157BE12 ,  5F157BE23 ,  5F157BE43 ,  5F157BE46 ,  5F157CA23 ,  5F157CE32 ,  5F157CE36 ,  5F157CE37 ,  5F157CF04 ,  5F157CF14 ,  5F157CF34 ,  5F157CF38 ,  5F157CF42 ,  5F157CF60 ,  5F157CF99 ,  5F157DB02 ,  5F157DB46 ,  5F157DC86

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 薬液混合供給方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-071650   出願人：セメス株式会社
• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-020547   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-251431   出願人：ソニー株式会社
• 洗浄液加熱装置及びそれを用いた洗浄液加熱方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-265294   出願人：株式会社ラスコ