特許
J-GLOBAL ID：201303072455248980

基板処理装置

発明者：
高橋 朋宏

高橋 朋宏 について

, 
荒木 浩之

荒木 浩之 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 杉谷 勉 ,  戸高 弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-071556
公開番号（公開出願番号）：特開2013-206946
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
要約：
【課題】リン酸水溶液中のシリコン濃度を精度よく測定することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置1は、リン酸水溶液を貯留する処理槽11と、リン酸水溶液を送る循環ポンプ13と、リン酸水溶液を加熱する循環用ヒータ15と、リン酸水溶液を濾過するフィルタ17と、を含み、処理槽11から排出されるリン酸水溶液を、循環ポンプ13、循環用ヒータ15、フィルタ17の順に流すとともに、フィルタ17から前記処理槽11にリン酸水溶液を戻す循環ライン3と、循環用ヒータ15とフィルタ17との間で循環ライン3から分岐し、循環ライン3からリン酸水溶液を抽出する分岐管31と、分岐管31に連通接続され、リン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する濃度測定部51と、を備えている基板処理装置1である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リン酸水溶液を貯留する処理槽と、リン酸水溶液を送る循環ポンプと、リン酸水溶液を加熱する循環用ヒータと、リン酸水溶液を濾過するフィルタと、を含み、前記処理槽から排出されるリン酸水溶液を、前記循環ポンプ、前記循環用ヒータ、前記フィルタの順に流すとともに、前記フィルタから前記処理槽にリン酸水溶液を戻す循環ラインと、 前記循環用ヒータと前記フィルタとの間で前記循環ラインから分岐し、前記循環ラインからリン酸水溶液を抽出する分岐管と、 前記分岐管に連通接続され、リン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する濃度測定部と、 を備えている基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (1件)：
H01L21/306 Z
Fターム (9件)：
5F043AA35 ,  5F043BB23 ,  5F043DD27 ,  5F043EE01 ,  5F043EE10 ,  5F043EE21 ,  5F043EE22 ,  5F043EE23 ,  5F043EE29
引用特許：
審査官引用 (6件)
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