特許
J-GLOBAL ID：201803004415361379

描画装置及び描画方法

発明者：
田端 秀敏

田端 秀敏 について

, 
松永 真一

松永 真一 について


出願人/特許権者：
株式会社オーク製作所

株式会社オーク製作所 について


代理人 (2件)： 三浦 邦夫 ,  三浦 邦陽
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-209839
公開番号（公開出願番号）：特開2015-075512
特許番号：特許第6306312号
出願日： 2013年10月07日
公開日（公表日）： 2015年04月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光変調素子により描画光を被描画体に照射し、前記被描画体を前記描画光に対して連続的に走査しながら前記被描画体にパターンを描画する描画装置であって、 前記被描画体を平面に対して傾斜した傾斜面または湾曲した湾曲面の描画領域を含む立体的な形状を有した状態のまま保持するステージと、 前記ステージによって保持された前記被描画体の被描画面の傾きを測定する測定手段と、 前記ステージ全体の傾きを調整することで前記被描画体全体を傾ける傾き調整手段と、 前記測定手段の測定結果に応じて、前記描画光が前記被描画体の前記被描画面に略垂直に入射するように、前記傾き調整手段を制御する傾き制御手段と、 を備えることを特徴とする描画装置。
IPC (5件)：
G03F 9/00 ( 200 6.01) ,  G03F 7/24 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01) ,  H05K 3/00 ( 200 6.01)
FI (7件)：
G03F 9/00 Z ,  G03F 7/24 G ,  G03F 7/24 Z ,  G03F 7/20 501 ,  G02F 1/13 101 ,  H05K 3/00 H ,  H05K 3/00 G
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM