空ビンを検査するための方法及び設備

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：江崎光史 , 鍛冶澤實 , 篠原淳司 , 清田栄章
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-511939
特許番号：特許第6250644号
出願日： 2013年04月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも1つの空容器、特にガラス、ポリエチレンテレフタレート又はその他の透明な材料から成るビンの表面上に配置された、例えば、浮出、装飾シーム等のような少なくとも1つの識別マークの位置の検出の下で当該空容器の欠陥を検査するための方法において、前記容器が、少なくとも1つの検査モジュールによってその欠陥を検査する前に検出モジュールを通過し、この検出モジュール内では、当該検出すべき識別マークの所定の位置が、この識別マークの実際の位置を検出するために光学式及び/又はセンサ式に走査され、当該実際の位置が特定され、前記識別マークが分離した構造体として検出されないか、又はその位置及び寸法を検出されないLUX数若しくは照度で、前記識別マークが、透過光によって露光されることによって、少なくとも1つの検査装置でのその後の第1検査時に、第1マスクが、前記識別マークの当該特定された位置に対して生成される結果、前記第1検査の実行時に、欠陥検出が、この第1マスクの領域内で実行されず、前記第1検査の実行後に、前記空容器が、所定の角度だけ回転され、第2検査が実行され、当該別の検査時に、第2マスクが、前記識別マークの当該記憶された新しい位置に対して生成される結果、前記第2検査の実行時に、欠陥検出が、当該第2マスクの領域内で実行されず、前記空容器が、不正確に回転したならば、前記識別マークが、前記第2マスクの領域内に存在せず、欠陥として検出され、この識別マークの位置と、この識別マークの2次元の寸法とが、当該回転を通じて生成されたオフセットによって計算され、当該それぞれのマスクの新しい位置及び寸法として使用される当該方法。

IPC (3件)：

G01N 21/90 ( 200 6.01) , G01B 11/00 ( 200 6.01) , G01B 11/30 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G01N 21/90 A , G01B 11/00 H , G01B 11/30 A

引用特許：

出願人引用 (6件)

検査機
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-505572 出願人：クロネス・アーゲー・ヘルマン・クロンセデル・マシーネンファブリーク
特開平4-128635
透明容器の検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-242364 出願人：ボ-ルコ-ポレイシヨン

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審査官引用 (6件)

検査機
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-505572 出願人：クロネス・アーゲー・ヘルマン・クロンセデル・マシーネンファブリーク
特開平4-128635
透明容器の検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-242364 出願人：ボ-ルコ-ポレイシヨン

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