特許
J-GLOBAL ID：201803009435658906

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

発明者：
北野 奈津実

北野 奈津実 について

, 
錦織 克聡

錦織 克聡 について

, 
古川 泰一

古川 泰一 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (7件)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  藤中 賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-125021
公開番号（公開出願番号）：特開2017-227810
出願日： 2016年06月23日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：
【課題】LWR性能、CDU性能、MEEF性能及び焦点深度に優れる感放射線性樹脂組成物の提供。【解決手段】酸解離性基を含む第1構造単位を有する第1重合体と感放射線性酸発生剤と光崩壊性塩基とを含有し、感放射線性酸発生剤が式(1)で表される部分構造と式(2)で表される基とを有する第1化合物からなる。式(1)中、A1、A2及びA3は環構造を表し、そのうち少なくとも1つは芳香環構造を表す。式(2)中、R1及びR2はフッ素原子又はパーフルオロアルキル基である。X+は感放射線性オニウムカチオンである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸解離性基を含む第1構造単位を有する第1重合体と、 感放射線性酸発生剤と、 光崩壊性塩基と を含有し、 上記感放射線性酸発生剤が、下記式(1)で表される部分構造と下記式(2)で表される基とを有する第1化合物からなる感放射線性樹脂組成物。
IPC (10件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  C07C 309/17 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/06 ,  C07C 309/12 ,  C07C 309/07 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/20
FI (11件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/004 503B ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/07 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/20 521
Fターム (64件)：
2H197AA12 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF11P ,  2H225AF16P ,  2H225AF23P ,  2H225AF24P ,  2H225AF52P ,  2H225AF53P ,  2H225AF54P ,  2H225AF56P ,  2H225AF62P ,  2H225AF63P ,  2H225AF66P ,  2H225AF67P ,  2H225AF68P ,  2H225AF71P ,  2H225AF75P ,  2H225AF92P ,  2H225AF99P ,  2H225AH15 ,  2H225AH16 ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AH20 ,  2H225AH33 ,  2H225AH36 ,  2H225AH38 ,  2H225AH41 ,  2H225AH50 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ45 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ55 ,  2H225AJ59 ,  2H225AN39P ,  2H225AN42P ,  2H225AN51P ,  2H225AN54P ,  2H225AN88P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225CA12 ,  2H225CB10 ,  2H225CB18 ,  2H225CC01 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  2H225CD05 ,  4H006AA03 ,  4H006AB99 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM74 ,  4H006BN30 ,  4H006BS70
引用特許：
審査官引用 (7件)
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