特許

J-GLOBAL ID：201803010121793661

基材、塗布方法及び塗布装置

発明者： 小柳 光正 ,  田中 徹 ,  李 康旭 ,  福島 誉史 ,  寺田 豊治 ,  谷 義則 ,  圓崎 諭
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学 ,  東レ株式会社 ,  東レエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人サンクレスト国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-022897
公開番号（公開出願番号）：特開2018-126708
出願日： 2017年02月10日
公開日（公表日）： 2018年08月16日
要約：

【課題】複数の親液部が相互に離れて縦方向及び横方向に形成され、親液部の間が塗布の対象とされない領域に形成された被塗布領域を有する基材に対して、塗布液の塗布を行う場合に、横方向両側の範囲に存在する親液部に対しても塗布液を広げて塗布する。【解決手段】基材7は、複数の親液部K1が相互に離れて縦方向及び横方向に形成され、親液部K1の間が塗布の対象とされない領域(撥液部K2)に形成された被塗布領域8を有している。被塗布領域8の縁領域Eに、親液性を有し塗布液の液付きを促す液付き拡幅領域K3が、少なくとも横方向に広がって形成されている。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

複数の親液部が相互に離れて縦方向及び横方向に形成され、当該親液部の間が塗布の対象とされない領域に形成された被塗布領域を有する基材であって、 前記被塗布領域の縁領域に、親液性を有し塗布液の液付きを促す液付き拡幅領域が少なくとも横方向に広がって形成されている、基材。

IPC (5件)：

B05D 1/26 ,  B05C 5/02 ,  B05C 9/10 ,  B05C 11/10 ,  B05D 7/00

FI (5件)：

B05D1/26 Z ,  B05C5/02 ,  B05C9/10 ,  B05C11/10 ,  B05D7/00 K

Fターム (20件)：

4D075AC02 ,  4D075AC88 ,  4D075CA47 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC21 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041CA02 ,  4F041CA15 ,  4F041CA16 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042CA09 ,  4F042CB03 ,  4F042CB10 ,  4F042DA00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 三次元集積回路の製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-070769   出願人：東京エレクトロン株式会社, 国立大学法人東北大学
• 塗布装置及び塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-225810   出願人：東レ株式会社