特許
J-GLOBAL ID：201803010711931989
ガス処理装置及びガス処理方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
特許業務法人弥生特許事務所
, 井上 俊夫
, 三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-248113
公開番号（公開出願番号）：特開2018-100439
出願日： 2016年12月21日
公開日（公表日）： 2018年06月28日
要約：
【課題】基板に処理ガスを供給して、当該基板の面内において均一性の高い処理を行うこと。【解決手段】処理ガスを載置部21に載置された基板Wにシャワー状に噴出するガス拡散板35と、前記ガス拡散板35の上方側に拡散空間36を介して対向する対向部34に設けられ、周方向に沿って複数のガス吐出口43が各々形成される複数のガス分散部41と、上流側が各ガス分散部41に共通する共通流路をなし、途中で分岐して下流側が各ガス分散部41に接続されると共に、前記共通流路から各ガス分散部41に至るまでの長さが互いに揃えられた処理ガスの流路5と、を備える装置を構成する。ガス分散部41は、拡散空間36の中心部周りに、中心が各々位置すると共に拡散空間36の周方向に沿った複数の円に沿い、1つの前記円において複数ずつ、拡散空間36の中心部からの距離が互いに異なるレイアウトで配置される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空雰囲気である処理室内の基板に対して処理ガスを供給して処理を行うガス処理装置において、
前記処理室に設けられ、前記基板が載置される載置部と、
前記載置部の上方側に位置する天井部を構成し、前記処理ガスをシャワー状に噴出するための複数のガス噴出孔が形成されるガス拡散板と、
前記ガス拡散板の上方側に前記処理ガスの拡散空間を介して対向する対向部に設けられ、前記拡散空間に横方向に前記処理ガスを分散させるために周方向に沿って複数のガス吐出口が各々形成される複数のガス分散部と、
上流側が前記各ガス分散部に共通する共通流路をなし、途中で分岐して下流側が当該各ガス分散部に接続されると共に、前記共通流路から各ガス分散部に至るまでの長さが互いに揃えられた前記処理ガスの流路と、
を備え、
前記ガス分散部は、前記拡散空間を平面で見たときに当該拡散空間の中心部周りに、中心が各々位置すると共に前記拡散空間の周方向に沿った複数の第1の円に沿い、1つの前記第1の円において複数ずつ、前記拡散空間の中心部からの距離が互いに異なるレイアウトで配置されることを特徴とすることを特徴とするガス処理装置。
IPC (2件)：
C23C 16/455
, H01L 21/285
C23C16/455
, H01L21/285 C
4K030AA04
, 4K030AA11
, 4K030AA17
, 4K030AA18
, 4K030BA20
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA04
, 4K030FA10
, 4K030HA01
, 4K030LA15
, 4M104BB18
, 4M104BB30
, 4M104DD43
, 4M104DD44
, 4M104DD45
, 4M104HH20
