特許
J-GLOBAL ID:201803013346417811
基板処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (9件):
大野 聖二
, 小林 英了
, 大野 浩之
, 森田 耕司
, 津田 理
, 松野 知紘
, 酒谷 誠一
, 佃 誠玄
, 野本 裕史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-130900
公開番号(公開出願番号):特開2018-006549
出願日: 2016年06月30日
公開日(公表日): 2018年01月11日
要約:
【課題】 スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置は、基板を研磨する研磨部と、研磨前の基板を前記研磨部へ搬送する搬送部と、研磨後の基板を洗浄する洗浄部と、を備える。洗浄部は、上下二段に配置された第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットを有している。第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットは、それぞれ、直列に配置された複数の洗浄モジュールを有している。搬送部は、第1洗浄ユニットと第2洗浄ユニットとの間に配置され、研磨前の基板を複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って搬送するスライドステージを有している。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板を研磨する研磨部と、
研磨前の基板を前記研磨部へ搬送する搬送部と、
研磨後の基板を洗浄する洗浄部と、
を備え、
前記洗浄部は、上下二段に配置された第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットを有し、
前記第1洗浄ユニットおよび前記第2洗浄ユニットは、それぞれ、直列に配置された複数の洗浄モジュールを有し、
前記搬送部は、前記第1洗浄ユニットと前記第2洗浄ユニットとの間に配置され、研磨前の基板を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って搬送するスライドステージを有する
ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/304
, B24B 37/34
, H01L 21/677
FI (5件):
H01L21/304 622L
, H01L21/304 622Q
, B24B37/00 X
, H01L21/68 A
, H01L21/304 644C
Fターム (65件):
3C158AA07
, 3C158AA18
, 3C158AB08
, 3C158AC04
, 3C158BC01
, 3C158BC02
, 3C158BC03
, 3C158CB03
, 3C158DA12
, 3C158DA17
, 3C158EA11
, 3C158EB01
, 5F057AA34
, 5F057DA03
, 5F057DA29
, 5F057DA38
, 5F057FA13
, 5F057FA32
, 5F057FA34
, 5F057FA37
, 5F057FA39
, 5F057GB02
, 5F057GB11
, 5F131AA02
, 5F131BA33
, 5F131BA37
, 5F131CA12
, 5F131CA32
, 5F131DA32
, 5F131DA33
, 5F131DA35
, 5F131DA36
, 5F131DA42
, 5F131DA62
, 5F131DA68
, 5F131DB04
, 5F131DB06
, 5F131DB32
, 5F131DB52
, 5F131DB76
, 5F131DC30
, 5F131EA06
, 5F131EA14
, 5F131EA23
, 5F131EA24
, 5F131EB72
, 5F131EB78
, 5F131FA14
, 5F131FA32
, 5F131GA03
, 5F131GA14
, 5F131GA19
, 5F131JA08
, 5F131JA16
, 5F131JA27
, 5F131JA32
, 5F157AA70
, 5F157AB02
, 5F157AB33
, 5F157AB44
, 5F157AB51
, 5F157BA07
, 5F157BA13
, 5F157BA14
, 5F157BA31
引用特許:
出願人引用 (8件)
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基板の処理システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-257665
出願人:大見忠弘, 東京エレクトロン株式会社
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洗浄システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-102495
出願人:東京エレクトロン株式会社
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加熱装置及び加熱方法並びに記憶媒体
公報種別:公開公報
出願番号:特願2015-078687
出願人:東京エレクトロン株式会社
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審査官引用 (8件)
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