特許
J-GLOBAL ID:201803013346417811

基板処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 大野 聖二 ,  小林 英了 ,  大野 浩之 ,  森田 耕司 ,  津田 理 ,  松野 知紘 ,  酒谷 誠一 ,  佃 誠玄 ,  野本 裕史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-130900
公開番号(公開出願番号):特開2018-006549
出願日: 2016年06月30日
公開日(公表日): 2018年01月11日
要約:
【課題】 スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置は、基板を研磨する研磨部と、研磨前の基板を前記研磨部へ搬送する搬送部と、研磨後の基板を洗浄する洗浄部と、を備える。洗浄部は、上下二段に配置された第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットを有している。第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットは、それぞれ、直列に配置された複数の洗浄モジュールを有している。搬送部は、第1洗浄ユニットと第2洗浄ユニットとの間に配置され、研磨前の基板を複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って搬送するスライドステージを有している。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板を研磨する研磨部と、 研磨前の基板を前記研磨部へ搬送する搬送部と、 研磨後の基板を洗浄する洗浄部と、 を備え、 前記洗浄部は、上下二段に配置された第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットを有し、 前記第1洗浄ユニットおよび前記第2洗浄ユニットは、それぞれ、直列に配置された複数の洗浄モジュールを有し、 前記搬送部は、前記第1洗浄ユニットと前記第2洗浄ユニットとの間に配置され、研磨前の基板を前記複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って搬送するスライドステージを有する ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/304 ,  B24B 37/34 ,  H01L 21/677
FI (5件):
H01L21/304 622L ,  H01L21/304 622Q ,  B24B37/00 X ,  H01L21/68 A ,  H01L21/304 644C
Fターム (65件):
3C158AA07 ,  3C158AA18 ,  3C158AB08 ,  3C158AC04 ,  3C158BC01 ,  3C158BC02 ,  3C158BC03 ,  3C158CB03 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158EB01 ,  5F057AA34 ,  5F057DA03 ,  5F057DA29 ,  5F057DA38 ,  5F057FA13 ,  5F057FA32 ,  5F057FA34 ,  5F057FA37 ,  5F057FA39 ,  5F057GB02 ,  5F057GB11 ,  5F131AA02 ,  5F131BA33 ,  5F131BA37 ,  5F131CA12 ,  5F131CA32 ,  5F131DA32 ,  5F131DA33 ,  5F131DA35 ,  5F131DA36 ,  5F131DA42 ,  5F131DA62 ,  5F131DA68 ,  5F131DB04 ,  5F131DB06 ,  5F131DB32 ,  5F131DB52 ,  5F131DB76 ,  5F131DC30 ,  5F131EA06 ,  5F131EA14 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EB72 ,  5F131EB78 ,  5F131FA14 ,  5F131FA32 ,  5F131GA03 ,  5F131GA14 ,  5F131GA19 ,  5F131JA08 ,  5F131JA16 ,  5F131JA27 ,  5F131JA32 ,  5F157AA70 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB44 ,  5F157AB51 ,  5F157BA07 ,  5F157BA13 ,  5F157BA14 ,  5F157BA31
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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