特許
J-GLOBAL ID：201803013691996522
反応現像画像形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
下田 昭
, 赤尾 謙一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-228454
公開番号（公開出願番号）：特開2015-087715
特許番号：特許第6240471号
出願日： 2013年11月01日
公開日（公表日）： 2015年05月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ポリイミド樹脂、露光部溶解阻害剤及び光酸発生剤を含有するネガ型フォトレジスト構造物を形成させるための感光性樹脂組成物であって、該ポリイミド樹脂が酸二無水物と下式
(式中、Xは、-O-、-S-、-CH2-、-O-CH2-O-、-CO-又は-SO2-を表し、R及びR'はそれぞれ独立してアルキル基を表し、m及びnはそれぞれ独立して0〜2の整数を表す。)で表されるジアミン化合物とを反応させてなり、
該酸二無水物が酸二無水物Aと酸二無水物Bから成り、該酸二無水物Aが下式で表され、
(式中、R1は4価の脂環式置換基を表す。)
該酸二無水物Bが下式
(式中、R2は下式で表される置換基を表す。)
で表され、
該露光部溶解阻害剤が下式
(式中、X'は下式で表される置換基を表し、
式中、Yは、-NR62、-OR6(但し、-OHを除く。)、-CR63又は-SR6(但し、-SHを除く。)を表し、R6は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す。)で表される化合物、下式
R7-CONHR6
又は
R7-COCH(R6)2
(式中、R7は、それぞれ独立して、脂肪族基又は芳香族基を表し、R6は上記と同様に定義される。)で表される化合物、下式
(式中、R8のうち少なくとも一つは脂肪族基又は芳香族基を表し、その他は水素原子を表し、Zは酸素原子(-O-)又は硫黄原子(-S-)を表す。)で表される化合物、又は下式
CH(R9)2C(R6)2OCO-N(R6)2
(式中、R9の少なくとも一方は電子求引基を表し、その他は水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す。R6は上記と同様に定義される。)で表される化合物である感光性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/022 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/32 ( 200 6.01)
G03F 7/022 501
, G03F 7/038 504
, G03F 7/32
