特許
J-GLOBAL ID：201803014657275111

レーザ治療システム

発明者：
林 健史

林 健史 について

, 
塚田 央

塚田 央 について


出願人/特許権者：
株式会社トプコン

株式会社トプコン について


代理人 (1件)： 榎並 智和
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-244468
公開番号（公開出願番号）：特開2015-100583
特許番号：特許第6293463号
出願日： 2013年11月27日
公開日（公表日）： 2015年06月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 治療用レーザ光を第1の光走査手段を介して患者眼に照射する照射光学系と、 光源からの光を測定光と参照光とに分割し、第2の光走査手段を介して測定光を患者眼に照射し、患者眼からの測定光の戻り光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光を検出手段に導く干渉光学系と、 あらかじめ設定された配列のスポットパターンに基づく複数の位置に対して順次に治療用レーザ光が照射されるように前記照射光学系を制御し、かつ、治療用レーザ光が照射されている位置および/または治療用レーザ光が照射された位置に測定光が照射されるように前記干渉光学系を制御する光学系制御手段と、 前記光学系制御手段による制御により得られた干渉光を検出した前記検出手段からの出力に基づいて、治療用レーザ光の照射条件をリアルタイムで制御する照射条件制御手段と を有し、 前記複数の位置のうちの第1の部分に治療用レーザ光が照射されている間に、前記光学系制御手段は、前記干渉光学系に対する前記制御を行い、 前記照射条件制御手段は、この制御における前記検出手段からの出力に基づいて前記照射条件の制御を行い、 前記光学系制御手段は、この制御による照射条件の治療用レーザ光が、前記複数の位置の少なくとも一部に対して照射されるように、前記照射光学系の制御を行い、 前記照射条件制御手段は、前記検出手段からの出力に基づいて、前記複数の位置の少なくとも一部を選択する照射位置選択手段を含み、 前記光学系制御手段は、前記照射条件制御手段により制御された照射条件の治療用レーザ光が、前記照射位置選択手段により選択された位置に対して照射されるように、前記照射光学系の制御を行う レーザ治療システム。
IPC (3件)：
A61F 9/008 ( 200 6.01) ,  A61B 3/10 ( 200 6.01) ,  A61B 3/135 ( 200 6.01)
FI (5件)：
A61F 9/008 130 ,  A61F 9/008 120 F ,  A61F 9/008 120 E ,  A61B 3/10 R ,  A61B 3/12 F
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (1件)

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