特許
J-GLOBAL ID：201803015472481820
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生体及び化合物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (9件)：
天野 一規
, 池田 義典
, 小川 博生
, 石田 耕治
, 各務 幸樹
, 根木 義明
, 川端 和也
, 塩谷 隆嗣
, 藤中 賢一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-230735
公開番号（公開出願番号）：特開2015-090457
特許番号：特許第6241212号
出願日： 2013年11月06日
公開日（公表日）： 2015年05月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び
第1感放射線性酸発生体
を含有し、
上記第1感放射線性酸発生体が、
下記式(1-1)で表される部分構造及び下記式(1-2)で表される部分構造からなる群より選ばれる少なくとも1種と、SO3-又はCOO-とを含むアニオン、及び
感放射線性オニウムカチオン
を有する化合物からなる感放射線性樹脂組成物。
(式(1-1)中、R1は、炭素数3〜30の置換エテニリデン基である。
式(1-2)中、R1は、炭素数3〜30の置換メタンジイル基である。)
IPC (9件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, C07C 309/23 ( 200 6.01)
, C07C 309/19 ( 200 6.01)
, C07C 309/24 ( 200 6.01)
, C07C 381/12 ( 200 6.01)
, C09K 3/00 ( 200 6.01)
, C07D 307/77 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, G03F 7/038 601
, C07C 309/23 CSP
, C07C 309/19
, C07C 309/24
, C07C 381/12
, C09K 3/00 K
, C07D 307/77
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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