特許
J-GLOBAL ID：201803015608643438

マスクブランク用基板の製造方法

発明者：
池ノ谷 伸彦

池ノ谷 伸彦 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-206086
公開番号（公開出願番号）：特開2018-066893
出願日： 2016年10月20日
公開日（公表日）： 2018年04月26日
要約：
【課題】従来に比べて、ガラス基板への異物の付着が有意に抑制された、マスクブランク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】マスクブランク用基板の製造方法であって、(I)コロイダルシリカを含む研磨スラリーを用いてガラス基板を研磨する工程と、(II)pHが9超14以下の洗浄液を用いて、前記ガラス基板を洗浄する工程であって、前記ガラス基板の洗浄後に、前記洗浄液のシリカ濃度は、100ppm以下に維持される、工程と、を有する、製造方法。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
マスクブランク用基板の製造方法であって、 (I)コロイダルシリカを含む研磨スラリーを用いてガラス基板を研磨する工程と、 (II)pHが9超14以下の洗浄液を用いて、前記ガラス基板を洗浄する工程であって、前記ガラス基板の洗浄後に、前記洗浄液のシリカ濃度は、100ppm以下に維持される、工程と、 を有する、製造方法。
IPC (5件)：
G03F 1/60 ,  B24B 37/00 ,  C03C 19/00 ,  C03C 23/00 ,  H01L 21/304
FI (5件)：
G03F1/60 ,  B24B37/00 H ,  C03C19/00 Z ,  C03C23/00 A ,  H01L21/304 647Z
Fターム (38件)：
2H195BB30 ,  2H195BC26 ,  3C158AA07 ,  3C158CA01 ,  3C158CA06 ,  3C158CB01 ,  3C158DA02 ,  3C158DA09 ,  3C158EA01 ,  3C158EB01 ,  3C158ED10 ,  4G059AA11 ,  4G059AB01 ,  4G059AB03 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC03 ,  5F157AA02 ,  5F157AA82 ,  5F157AA88 ,  5F157AA96 ,  5F157AB01 ,  5F157AC01 ,  5F157BB02 ,  5F157BC05 ,  5F157BC07 ,  5F157BC13 ,  5F157BC53 ,  5F157BE12 ,  5F157BE23 ,  5F157CD34 ,  5F157CD36 ,  5F157CE08 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18 ,  5F157DB23 ,  5F157DB37 ,  5F157DB51
引用特許：
出願人引用 (5件)
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