特許
J-GLOBAL ID：201803016399973979

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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嶋田 雅彦

嶋田 雅彦 について

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西村 崇

西村 崇 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-226831
公開番号（公開出願番号）：特開2014-115630
特許番号：特許第6276965号
出願日： 2013年10月31日
公開日（公表日）： 2014年06月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を含み、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、 式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、並びに、 式(B1)で表される酸発生剤を含有し、 前記酸不安定基を有する構造単位は、式(a1-1)で表される構造単位、式(a1-2)で表される構造単位及び式(a1-5)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも2種の構造単位を含むレジスト組成物。 [式(I)中、 R1は、水素原子又はメチル基を表す。 R2は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。但し、L1との結合位置にある炭素原子に結合する水素原子は、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されない。 L1は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。] [式(a4)中、 R3は、水素原子又はメチル基を表す。 R4は、炭素数1〜20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。] [式(II)中、 環T1は置換基を有していてもよい炭素数3〜34のスルトン環を表す。 R7は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。 Z1は、炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、カルボニル基又は酸素原子で置き換わっていてもよい。 Rcは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。] [式(a1-1)及び式(a1-2)中、 La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CH2)k1-CO-O-を表し、k1は1〜7の整数を表し、*は-CO-との結合手を表す。 Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。 Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合わせた基を表す。 m1は0〜14の整数を表す。 n1は0〜10の整数を表す。 n1’は0〜3の整数を表す。] 式(a1-5)中、 Ra11は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。 Za11は、単結合又は*-[CH2]k1’-CO-La14-を表す。ここで、k1’は1〜4の整数を表す。*は、La11との結合手を表す。 La11、La12、La13及びLa14は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。 s1は、1〜3の整数を表す。 s1’は、0〜3の整数を表す。 [式(B1)中、 Qb1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。 Lb1は、式(b1-1)で表される基を表す。 Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。 Zb+は、有機カチオンを表す。] (式(b1-1)中、 Lb2は、単結合又は炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。 Lb2’は、単結合又は炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該脂肪族飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。)
IPC (3件)：
G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A
引用特許：
審査官引用 (4件)
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