特許
J-GLOBAL ID：200903026932052240

レジスト表面疎水化用樹脂、その製造方法及び該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物

発明者：
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-071483
公開番号（公開出願番号）：特開2008-260931
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2008年10月30日
要約：
【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジストに添加する樹脂であって、該樹脂中の残存モノマーが固形分換算にて樹脂全体に対して1質量%以下であることを特徴とする樹脂、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジストに添加する樹脂であって、該樹脂中の残存モノマーが固形分換算にて樹脂全体に対して1質量%以下であることを特徴とする樹脂。
IPC (4件)：
C08F 20/10 ,  G03F 7/039 ,  C08F 6/00 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F20/10 ,  G03F7/039 601 ,  C08F6/00 ,  H01L21/30 575
Fターム (43件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB10P ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AP16P ,  4J100AR11P ,  4J100BA03P ,  4J100BA72P ,  4J100BA81P ,  4J100BB07P ,  4J100BB13P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100GA18 ,  4J100GA22 ,  4J100GB01 ,  4J100JA38 ,  5F046JA22
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (8件)
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