特許
J-GLOBAL ID：200903036126821727

レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
三枝 浩

三枝 浩 について

, 
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-152804
公開番号（公開出願番号）：特開2008-304773
出願日： 2007年06月08日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)疎水性樹脂及び (D)溶剤を含有し、樹脂(A)の重量平均分子量と疎水性樹脂(C)の重量平均分子量との差が、下記式を満たすレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 樹脂(A)の重量平均分子量 - 疎水性樹脂(C)の重量平均分子量 ≧3000【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)疎水性樹脂及び (D)溶剤 を含有し、樹脂(A)の重量平均分子量と疎水性樹脂(C)の重量平均分子量との差が、下記式を満たすことを特徴とするレジスト組成物。 樹脂(A)の重量平均分子量 - 疎水性樹脂(C)の重量平均分子量 ≧3000
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CB55 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭57-153433号公報
  • パターン形成方法及びその露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-008136   出願人：株式会社日立製作所
  • 液浸型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
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審査官引用 (4件)
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