特許
J-GLOBAL ID：201103092366546397
レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (18件)：
蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 勝村 紘
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-063408
公開番号（公開出願番号）：特開2011-197339
出願日： 2010年03月19日
公開日（公表日）： 2011年10月06日
要約：
【課題】現像欠陥性能に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)により表される酸を発生する化合物とを含有したレジスト組成物。【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、
活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)により表される酸を発生する化合物とを含有したレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/038
, G03F 7/32
, G03F 7/039
G03F7/038 601
, G03F7/32
, G03F7/039 601
2H096FA10
, 2H096GA03
, 2H125AF17P
, 2H125AF19P
, 2H125AF21P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AH05
, 2H125AH06
, 2H125AH14
, 2H125AH15
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AM12P
, 2H125AM23P
, 2H125AM30P
, 2H125AM43P
, 2H125AM45P
, 2H125AM86P
, 2H125AM94P
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN37P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN57P
, 2H125AN62P
, 2H125AN63P
, 2H125AN64P
, 2H125AN65P
, 2H125AN86P
, 2H125AN88P
, 2H125BA01P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 2H125FA05
