基板洗浄装置及び基板洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：渡邉勇 , 廣澤哲也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-238224
公開番号（公開出願番号）：特開2014-132639
特許番号：特許第6297308号
出願日： 2013年11月18日
公開日（公表日）： 2014年07月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】洗浄部材を、鉛直方向に延びる回転軸を中心に回転させながら一方向に向けて移動させ、洗浄液の存在下で、前記洗浄部材の下端接触面を水平に回転している基板の表面に擦り付けて該表面を洗浄する基板洗浄装置において、前記洗浄部材は、下端接触面と外周面上の直線とのなす角αが90°<α≦150°の逆円錐台形状を有し、前記洗浄部材の回転軸を該洗浄部材の移動方向と同じ方向に傾斜させながら、前記洗浄部材の下端接触面の全面を基板に接触させつつ前記洗浄部材を一方向に向けて移動させることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：